1.本发明涉及一种荧光清洗剂及其制备方法，以及采用该荧光清洗剂检测零件的方法。
背景技术：
2.渗透检测工艺在现有技术中已广为人知，其目的是在试验体中检测极微小的表面不连续和具有表面开口的亚表面缺陷。测试体或部件可以由金属、陶瓷或其他材料构成。已知的方法包括无损检测渗透测试程序，通常的步骤包括，作为第一步，将测试体浸入渗透缺陷示踪液体中，在其中溶解荧光染料或非荧光可见色染料。通常使用的渗透探伤示踪液已配制成一种油性液体载体，染料在该载体中溶解。
3.在渗透剂中浸泡试验体一段适当的停留时间后，将试验体从液体中取出，然后进行排水、乳化和洗涤操作，以清除附着在其表面的任何渗透液体。然而，渗透液的微小滞留仍然存在于任何表面不连续处或具有表面开口的亚表面缺陷中，即使非常小。如果使用的渗透液含有溶解的荧光染料，则通过暴露在紫外线辐射下，可使俘获物可见。另一方面，如果渗透液中含有溶解的非荧光可见色染料，则在普通光线下可以看到俘获物。
4.荧光渗透剂基本上是由含有适当浓度的洗涤材料的油性载体组成，足以使油性混合物在水中乳化。洗涤剂材料渗透配方的存在导致“吸附”的效果，很难清洗，影响检测效果。
技术实现要素：
5.本发明提供一种荧光清洗剂，以解决上述技术问题。
6.为了解决上述技术问题，本发明的技术方案是：
7.一种荧光清洗剂，按质量分数包括：
8.十二烷基苯磺酸1.2％；
9.十二烷基磺酸钠1.2％；
10.辛基苯基聚氧乙烯醚5％；
11.三乙醇胺0.6％；
12.羧甲基纤维素钠1％；
13.硅酸钠4％；
14.苯并三唑0.05％；
15.碳酸钠4％；
16.余量为蒸馏水。
17.为了解决上述技术问题，本发明的另一种技术方案是：
18.一种荧光清洗剂，按质量分数包括：
19.十二烷基苯磺酸0.6％；
20.十二烷基磺酸钠0.6％；
21.辛基苯基聚氧乙烯醚6％；
22.三乙醇胺1％；
23.羧甲基纤维素钠1％；
24.硅酸钠4％；
25.苯并三唑0.05％；
26.碳酸钠4％；
27.余量为蒸馏水。
28.为了解决上述技术问题，本发明的另一种技术方案是：
29.一种荧光清洗剂，按质量分数包括：
30.十二烷基苯磺酸1％；
31.十二烷基磺酸钠1％；
32.辛基苯基聚氧乙烯醚8％；
33.三乙醇胺0.5％；
34.羧甲基纤维素钠1％；
35.硅酸钠4％；
36.苯并三唑0.05％；
37.碳酸钠4％；
38.余量为蒸馏水。
39.进一步的，为了解决上述技术问题，本发明提供一种荧光清洗剂的制备方法：按配方组成质量分数取去离子水，高速搅拌，调节反应温度在65℃，依次加入十二烷基苯磺酸，十二烷基磺酸钠，辛基苯基聚氧乙烯醚，三乙醇胺，羧甲基纤维素钠，硅酸钠，待全部溶解后，持续加热搅拌1小时后，冷却至室温，得到均匀稳定的荧光清洗剂。
40.本发明提供的荧光清洗剂，由几种表面活性剂复配而成，通过协调作用可以增加稳定性，提高去污能力、消泡性和漂洗性能。能在常温下快速、高效去除油污，可代替苯、四氯化碳、三氯乙烯等有机溶剂进行荧光探伤检测中裂纹表面的除油清洗，对金属设备腐蚀性小，防锈效果好，使荧光探伤检测灵敏度更高，污染危害性降低，并且节能、环保、安全和清洗成本，具有很好的工业实用价值。
41.为了解决上述技术问题，本发明提供一种检测零件的方法，包括：
42.步骤(1)、清洗待检工件的表面；
43.步骤(2)、在干燥后的待检工件的表面喷涂荧光渗透剂，等待5
‑
10分钟，以允许所述荧光渗透剂进入并嵌在待检工件表面裂纹中，
44.步骤(3)、将乳化剂应用于所述部件以乳化多余的渗透剂；
45.步骤(4)、当荧光渗透剂滞留在所述裂纹处，且所述待检工件表面仍潮湿时，用上述方法制备的荧光清洗剂冲洗所述待检工件以去除乳化剂和乳化渗透剂；
46.步骤(5)、在所述待检工件表面涂上干燥疏水显影剂颗粒，等待3
‑
5分钟，去除多余的显影剂；
47.步骤(6)、对所述待检工件检查荧光渗透剂从所述裂纹处渗出并进入所述颗粒。
48.进一步的，洗涤后剩余的水滴通过气流去除。
49.进一步的，所述疏水显影剂包括二氧化硅气凝胶。
50.进一步的，所述疏水显影剂由碳酸钙组成。
51.进一步的，用空气喷雾除去多余的疏水显影液颗粒。
52.进一步的，所述疏水显影剂颗粒的平均粒径不超过1微米。
53.本发明提供的检测零件的方法采用本发明提供的荧光清洗剂冲洗所述待检工件以去除乳化剂和乳化渗透剂；然后将所述待检工件放置在紫外光下，发现无荧光显示，本发明提供的荧光清洗剂可以完全去除荧光渗透剂的残余液，有效避免漏检，使荧光探伤检测灵敏度更高，污染危害性降低，具有很好的工业实用价值。
具体实施方式
54.为更进一步阐述本发明为达成预定目的所采取的技术手段及功效，以下结合较佳实施例，对依据本发明提出的荧光清洗剂具体实施方式、方法、步骤、结构、特征及功效，详细说明如后。
55.有关本发明的前述及其他技术内容、特点及功效，在以下较佳实施例详细说明中将可清楚的呈现。通过具体实施方式的说明，当可对本发明为达成预定目的所采取的技术手段及功效得以更加深入且具体的了解。
56.实施例1
57.一种荧光清洗剂，按质量分数包括：
58.十二烷基苯磺酸1.2％；
59.十二烷基磺酸钠1.2％；(十二烷基苯磺酸钠，表面活性剂)
60.辛基苯基聚氧乙烯醚5％；
61.三乙醇胺0.6％；
62.羧甲基纤维素钠1％；(有机助剂)
63.硅酸钠4％；
64.苯并三唑0.05％；
65.碳酸钠4％；
66.余量为蒸馏水。
67.实施例2
68.一种荧光清洗剂，按质量分数包括：
69.十二烷基苯磺酸0.6％；
70.十二烷基磺酸钠0.6％；
71.辛基苯基聚氧乙烯醚6％；
72.三乙醇胺1％；
73.羧甲基纤维素钠1％；
74.硅酸钠4％；
75.苯并三唑0.05％；
76.碳酸钠4％；
77.余量为蒸馏水。
78.实施例3
79.一种荧光清洗剂，按质量分数包括：
80.十二烷基苯磺酸1％；
81.十二烷基磺酸钠1％；
82.辛基苯基聚氧乙烯醚8％；
83.三乙醇胺0.5％；
84.羧甲基纤维素钠1％；
85.硅酸钠4％；
86.苯并三唑0.05％；
87.碳酸钠4％；
88.余量为蒸馏水。
89.实施例4
90.一种荧光清洗剂的制备方法：按配方组成质量分数取适量去离子水，高速搅拌，调节反应温度在65℃，依次加入十二烷基苯磺酸1％，十二烷基磺酸钠1％，辛基苯基聚氧乙烯醚6％，三乙醇胺0.5％，羧甲基纤维素钠1％，硅酸钠4％，待全部溶解后，持续加热搅拌1小时后，加入其他助剂继续加热搅拌半小时，冷却至室温，得到均匀稳定的荧光清洗剂。
91.上述方法制备的荧光清洗剂，经过检测：
92.无色无味，ph数值为9
‑
11，
93.腐蚀性能：表面无腐蚀点
94.防锈性：无锈点
95.消泡性：泡沫高度小于5mm
96.高低温稳定性：无沉淀、分层与浑浊
97.漂洗性：无残留物
98.实施例5
99.一种检测零件的方法，包括：
100.步骤(1)清洗待检工件的表面；
101.步骤(2)在干燥后的待检工件的表面喷涂荧光渗透剂，等待5
‑
10分钟，以允许所述荧光渗透剂进入并嵌在待检工件表面裂纹中，
102.步骤(3)将乳化剂应用于所述部件以乳化多余的渗透剂；
103.步骤(4)当荧光渗透剂滞留在所述裂纹处，且所述待检工件表面仍潮湿时，用实施例4制备的荧光清洗剂冲洗所述待检工件以去除乳化剂和乳化渗透剂；
104.步骤(5)在所述待检工件表面涂上干燥疏水显影剂颗粒，等待3
‑
5分钟，去除多余的显影剂；
105.步骤(6)对所述待检工件检查荧光渗透剂从所述裂纹处渗出并进入所述颗粒；可以看到裂纹完全显示出来。说明本发明的制备的荧光清洗剂可以完全去除多余的渗透液，减小背景的影响，提高检测的灵敏度，而且多余的荧光清洗剂对荧光发光没有淬灭的影响，不影响检测的结果。
106.实施例5中，步骤(4)洗涤后剩余的水滴通过气流去除。
107.所述疏水显影剂由碳酸钙组成。
108.用空气喷雾除去多余的疏水显影液颗粒。
109.所述疏水显影剂颗粒的平均粒径不超过1微米。
110.实施例6
111.用实施例5制备的荧光清洗剂对渗透剂清洗性能的检验：
112.将实施例5中，步骤(4)当荧光渗透剂滞留在所述裂纹处，且所述待检工件表面仍潮湿时，用实施例3制备的荧光清洗剂冲洗所述待检工件以去除乳化剂和乳化渗透剂；然后将所述待检工件放置在紫外光下，发现无荧光显示，说明本发明提供的荧光清洗剂可以完全去除荧光渗透剂的残余液。
113.对比例1
114.一种检测零件的方法，包括：
115.步骤(1)清洗待检工件的表面；
116.步骤(2)在干燥后的待检工件的表面喷涂荧光渗透剂，等待5
‑
10分钟，以允许所述荧光渗透剂进入并嵌在待检工件表面裂纹中，
117.步骤(3)将乳化剂应用于所述部件以乳化多余的渗透剂；
118.步骤(4)当荧光渗透剂滞留在所述裂纹处，且所述待检工件表面仍潮湿时，用水冲洗所述待检工件以去除乳化剂和乳化渗透剂；然后在紫外灯下进行荧光显示，可以看到荧光渗透剂有残留，仅用水难以清洗完全。
119.综上，本发明提供的荧光清洗剂，由几种表面活性剂复配而成，通过协调作用可以增加稳定性，提高去污能力、消泡性和漂洗性能。能在常温下快速、高效去除油污，可代替苯、四氯化碳、三氯乙烯等有机溶剂进行荧光探伤检测中裂纹表面的除油清洗，对金属设备腐蚀性小，防锈效果好，使荧光探伤检测灵敏度更高，污染危害性降低，并且节能、环保、安全和清洗成本，具有很好的工业实用价值。
120.以上所述，仅是发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。