一种树脂及含其的193nm浸没式光刻胶的制作方法

文档序号:36237621发布日期:2023-12-01 20:26阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种树脂,其特征在于,所述树脂为由式(a)所示的单体、式(b)所示的单体、式(c)所示的单体和式(d)所示的单体聚合得到的共聚物;

2.如权利要求1所述的树脂,其特征在于,r1为c1-c4烷基,例如甲基;

3.如权利要求1所述的树脂,其特征在于,所述式(a)所示的单体为

4.如权利要求1所述的树脂,其特征在于,所述树脂选自以下树脂1-8中的任一种:

5.如权利要求1至4中任一项所述的树脂,其特征在于,所述树脂由以下制备方法制得,所述制备方法包括以下步骤:将所述的式(a)所示的单体、式(b)所示的单体、式(c)所示的单体和式(d)所示的单体在有机溶剂中进行聚合反应,得到所述树脂。

6.如权利要求5所述的树脂,其特征在于,所述树脂的制备方法中,以重量份数计,所述有机溶剂的重量份数为50-300份,例如100份;

7.如权利要求5所述的树脂,其特征在于,所述树脂的制备方法包括以下步骤:将所述的式(a)所示单体、式(b)所示单体、式(c)所示单体和式(d)和部分有机溶剂的溶液加入至其余有机溶剂中;

8.一种光刻胶组合物,其特征在于,所述光刻胶组合物包括如权利要求1至7中任一项所述的树脂、光酸产生剂和溶剂;

9.如权利要求8所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述光酸产生剂具有式(i)所示结构:

10.如权利要求9所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述光酸产生剂选自以下结构中的任一种:


技术总结
本发明公开了一种树脂及含其的193nm浸没式光刻胶。该树脂为由式(A)所示的单体、式(B)所示的单体、式(C)所示的单体和式(D)所示的单体聚合得到的共聚物;其中,以重量份数计,所述式(A)所示的单体的重量份数为42.5‑47.5份,所述式(B)所示的单体的重量份数为1‑7.5份,所述式(C)所示的单体的重量份数为0.25‑2.5份,所述式(D)所示的单体的重量份数为0.25‑2.5份。包含本发明树脂的光刻胶至少具有以下优势:感光性优异,聚焦深度(DOF)好以及线宽均匀性(CDU)好。

技术研发人员:王溯,方书农,徐森,林逸鸣
受保护的技术使用者:上海芯刻微材料技术有限责任公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/16
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