技术总结
本发明提供的一种高精度复合抛光液，由以下重量百分比组分组成：研磨剂0.1％～50％，分散剂0.01％～20％，悬浮剂0.01％～15％，缓蚀剂0.1％～5％，余量为去离子水溶剂，该抛光液主要以机械去除为主，可实现对基材的高速率抛光；而且该制备方法具有生产效率高、连续性强、成本低、产品细度高等优点，同时该方法对用于研磨剂的原料的粒度分布和均一性无要求，拓宽了研磨剂原料的选择范围，只要符合平均粒度要求的粉体材料均可适用。
技术研发人员：阳震;陈彬
受保护的技术使用者：惠州市米特仑科技有限公司
文档号码：201610670232
技术研发日：2016.08.15
技术公布日：2017.03.08