1.一种用于sti工艺的抛光浆料组合物，包括：
抛光液，其包括抛光粒子；以及
添加液，其包括具有酰胺键的聚合物的氮化膜抛光抑制剂。
2.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述聚合物表示为下述化学式1：
[化学式1]
(在所述化学式1中，n是1以上的整数，r2是单纯结合、经取代或未经取代的c1-30的亚烷基、亚烯基、亚环烷基、亚芳基、芳基亚烷基或亚炔基，r1、r3及r4是彼此独立的氢、羟基、官能团经取代或未经取代的c1-30的烷基、烷氧基、芳基或芳烷基)。
3.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述聚合物包括从由聚(2-甲基-2-恶唑啉)、具有羟基末端的聚(2-甲基-2-唑啉)、具有α-苯甲基及ω-叠氮化物末端的聚(2-甲基-2-唑啉)、具有叠氮化物末端聚(2-甲基-2-唑啉)、具有呱嗪末端的聚(2-甲基-2-唑啉)、聚(2-乙基-2-唑啉)、具有炔属烃末端的聚(2-乙基-2-唑啉)、具有α-苯甲基及ω-硫醇末端的聚(2-乙基-2-唑啉)、α-甲基及ω-2-羟乙胺的聚(2-乙基-2-唑啉)、具有胺末端的聚(2-乙基-2-唑啉)、具有呱嗪末端的聚(2-乙基-2-唑啉)、聚(2-丙基-2-唑啉)、具有叠氮化物末端聚的聚(2-丙基-2-唑啉)及其衍生物组成的群组中选择的至少任一种。
4.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述聚合物的分子量为1000至5000000。
5.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述聚合物在所述用于sti工艺的抛光浆料组合物中占0.001重量％至1重量％。
6.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述添加液作为氧化膜抛光调节剂，还包括氨基化合物。
7.根据权利要求6所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述氨基化合物还包括从由二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、四乙基五胺、五亚乙基六胺、六亚乙基七胺、二(六亚乙基)三胺、n-(3-氨基丙基)乙二胺、n,n'-二(3-氨基丙基)乙二胺、n,n,n'-三(3-氨基丙基)乙二胺、n-3-氨基丙基-1，3-丙二胺、n,n'-二(3-氨基丙基)-1，3-丙二胺、n,n,n'-三(3-氨基丙基)-1，3-丙二胺、二-(3-氨基丙基)胺、二丙烯三胺及三丙烯四胺组成的群组中选择的至少任一种胺单体；从聚(二亚乙基三胺)-co-环氧氯丙烷、聚(三亚乙基四胺)-co-环氧氯丙烷、四乙基五胺-co-环氧氯丙烷及五亚乙基六胺-co-环氧氯丙烷组成的群组中选择的至少任一种胺聚合物，或两者的组合。
8.根据权利要求6所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述氨基化合物在所述用于sti工艺的抛光浆料组合物中占0.1ppm至1000ppm。
9.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述添加液还包括从由羧酸、硝酸、盐酸、磷酸、硫酸、氢氟酸、溴酸、碘酸、庚二酸、苹果酸、丙二酸、马来酸、乙酸、肥酸、草酸、琥珀酸、酒石酸、柠檬酸、乳酸、戊二酸、乙醇酸、甲酸、富马酸、丙酸、丁酸、羟丁酸、天冬氨酸、衣康酸、丙三羧酸、辛二酸、苯甲酸、苯乙酸、萘甲酸、苯基乙醇酸、吡啶甲酸、烟酸、异烟酸、喹啉酸、邻氨基苯甲酸、富马酸、邻苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸、吡啶甲酸、水杨酸、谷氨酸、聚丙烯酸、聚丙烯酸共聚物及聚砜酸组成的群组中选择的至少任一种以上的酸性物质。
10.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述添加液还包括碱性物质，
所述碱性物质包括从由四甲基氢氧化铵、氨、氢氧化钾、氢氧化钠、氢氧化镁、氢氧化铷、氢氧化铯、碳酸氢钠、碳酸钠、精氨酸、组氨酸、赖氨酸、甲胺、乙醇胺、丙胺、丁胺、异丙胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二丙胺、乙二胺、丙二酰胺、乙胺、三丁胺、四亚甲基、无乙烯羟化四甲铵、四乙基五胺、n-甲基二乙醇胺、n-异丙基二乙醇胺、n-异丙基二乙醇胺、n-(2-甲基丙基)二乙醇胺、n-n-丁基二乙醇胺、n-t-丁基乙醇胺、n-环己基二乙醇胺、n，n-二(2-羟丙基)乙醇胺、三异丙醇胺、2-氨基-2-乙基-1，3-丙二醇、2-二甲氨基-2-甲基-1-丙醇、1-二甲氨基-2-丙醇、3-二甲氨基-1-丙醇、2-二甲氨基-1-丙醇、2-二甲氨基-1-丙醇、2-二甲氨基-1-乙醇、2-乙胺基-1-乙醇、1-(二甲氨基)2-丙醇、3-氨基-1-丙醇、2-氨基-1-丙醇、1-氨基-2-丙醇、1-氨基-丙醇、2-(二甲氨基)乙醇、2-二乙基氨基乙醇、2-二丙基氨基乙醇、2-丁氨基乙醇、2-t-丁氨基乙醇、2-环氨基乙醇、2-氨基-2-丙醇、2-[双(2-羟乙基)氨基]-2-甲基-1-丙醇、2-[双(2-羟乙基)氨基]-2-丙醇、2-氨基-2-甲基-1-丙醇及三(羟甲基)甲胺组成的群组中选择的至少任一种。
11.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述抛光粒子通过固相法或液相法来制备，并进行分散使得抛光粒子的表面具有正电荷。
12.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述抛光粒子包括从由金属氧化物、经有机物或无机物涂覆的金属氧化物及处于胶体状态的金属氧化物组成的群组中选择的至少任一种，并且，所述金属氧化物包括从由二氧化硅、二氧化铈、氧化锆、氧化铝、二氧化钛、钡二氧化钛、氧化锗、氧化锰及氧化镁组成的群组中选择的至少任一种。
13.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述抛光粒子的大小包括5nm至150nm的一次粒径及30nm至300nm的二次粒径。
14.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述抛光粒子在所述用于sti工艺的抛光浆料组合物中占0.1重量％至10重量％。
15.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述用于sti工艺的抛光浆料组合物的ph范围为3至6。
16.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，还包括：
水，
所述抛光液：水：添加液的比例为1:3至10:1至10。
17.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
所述用于sti工艺的抛光浆料组合物的ζ电位范围为+5mv至+70mv。
18.根据权利要求1所述的用于sti工艺的抛光浆料组合物，
绝缘膜：氮化膜的抛光选择比为10:1至1000:1。