一种光学保护膜的制作方法

文档序号:24175476发布日期:2021-03-05 21:40阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种光学保护膜,包括薄膜,所述薄膜的一表层为聚乙烯表层,所述聚乙烯表层的表面依次设置有电晕层和胶层,其特征在于,所述薄膜为共挤膜,所述薄膜的另一表层为尼龙层。2.根据权利要求1所述的光学保护膜,其特征在于,所述共挤膜的共挤层数为至少五层。3.根据权利要求2所述的光学保护膜,其特征在于,所述薄膜的层状结构为尼龙层、第一粘接层、第一聚乙烯内层、第二聚乙烯内层和聚乙烯表层。4.根据权利要求1所述的光学保护膜,其特征在于,所述胶层为双组份聚氨酯胶粘剂烘干胶层。5.根据权利要求1所述的光学保护膜,其特征在于,所述薄膜的厚度为40~80μm。6.根据权利要求1或4所述的光学保护膜,其特征在于,所述胶层的厚度为5~10μm。7.根据权利要求2所述的光学保护膜,其特征在于,所述共挤膜的共挤层数为七层,薄膜的层状结构为聚乙烯外层、第一粘接层、尼龙芯层、第二粘接层、第一聚乙烯内层、第二聚乙烯内层和聚乙烯表层。
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