一种防复制镭射防伪膜的制作方法

1.本实用新型涉及防伪膜印刷复制技术领域，具体为一种防复制镭射防伪膜。


背景技术：

2.微纳米光栅结构应用在塑料膜上，能制作出具有全息效果的镭射膜，常被用于包装或者卡证领域。现有包装膜片被剥离后再经酸洗/碱洗等操作洗去无机镀层后，光栅结构直接暴露，可通过一定技术手段对光栅结构进行翻版复制，从而对防伪技术实现破解。因此亟待设计出一种防复制镭射防伪膜制作解决防伪膜容易被复制的问题。


技术实现要素：

3.针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种防复制镭射防伪膜，解决了现有证卡及包装的易复制、防伪技术易破解的问题。
4.为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种防复制镭射防伪膜，包括依次设置基材层、图像层、印刷层、纳米涂层、uv保护层及背胶层。
5.较佳地,所述基材层与图像层之间设置底涂层，所述底涂层材质为丙烯酸、且厚度为0.5～5微米。
6.较佳地,所述图像层为设置有微纳米光栅结构图案的聚氨酯树脂涂层、且厚度为0.5～10微米。
7.较佳地,所述印刷层包含有与图像层中微纳米光栅结构图案相匹配的特定图案，所述印刷层厚度为0.5～10微米。
8.较佳地,所述基材层材料为pvc、pvc、pp、petg、pc、abs任意一种或者两种以上复合材料，所述基材层厚度12～400微米。
9.较佳地,所述纳米涂层材质为硫化锌、铝、铜、锌、锡，氟化镁、二氧化硅、硫化硒材料中的任意一种，所述纳米涂层厚度为200～500埃。
10.较佳地,所述uv保护层为聚氨酯丙烯酸酯与羟基丙烯酸树脂涂层、且厚度为0.5～10微米。
11.较佳地,所述背胶层为热熔胶层、且厚度为0.5～10微米
12.本实用新型具备以下有益效果：
13.1、通过在基材层表面设置固化涂料及微纳米光栅结构图案以形成图像层，且固化涂料选用双组份或者多组份反应型树脂，交联固化后温度高，和镀层结合牢度高，保证在纳米涂层剥落的情况下微纳米光栅结构不能被完整复制；
14.2、通过在印刷层设置与图像层中微纳米光栅结构图案相匹配的特定图案，即印刷层包含特定图案，且印刷层使用与图像层化学组成近似的油墨进行印刷特定图案，可实现图像层与印刷层对图案进行无误差套印，起到一定的防止复制的作用；
15.3、通过对纳米涂层表面增涂uv油墨以形成uv保护层，使用聚氨酯丙烯酸酯与羟基丙烯酸树脂体系的uv油墨在图案之上涂布并进行uv灯照射以固化油墨以形成uv保护层，uv
保护层具有提高膜片的耐酸、碱、有机溶剂的性能，防止纳米涂层因酸碱腐蚀而剥落。
附图说明
16.图1为本发明提供的一种防复制镭射防伪膜结构示意图；
17.图2为本发明实施例一种防复制镭射防伪膜结构示意图；
18.图3为本发明实施例一种防复制镭射防伪膜结构示意图；
19.图4为本发明实施例一种防复制镭射防伪膜结构示意图；
20.图5为本发明实施例一种防复制镭射防伪膜结构示意图；
21.图6为本发明实施例一种防复制镭射防伪膜仿制效果结构示意图。
22.图中：1、基材层；2、底涂层；3、图像层；4、印刷层；5、纳米涂层；6、uv保护层；7、背胶层；8、防伪膜；9、特定图案；10、微纳米光栅结构图案。
具体实施方式
23.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
24.请参阅图1，本实用新型提供一种技术方案：防复制镭射防伪膜，包括依次设置基材层1、图像层3、印刷层4、纳米涂层5、uv保护层6及背胶层7。
25.在一种较佳的实施方式中,所述基材层1与图像层3之间设置底涂层2，底涂层2材质为丙烯酸、且厚度为0.5～5微米，在基材层1打底涂上底涂层 2用以增加图像层3和基材层1的结合力，图像层3为设置有微纳米光栅结构图案的聚氨酯树脂涂层、且厚度为0.5～10微米,底涂层2上涂覆图像层3，在将微纳米结构色图案转移至图像层3后，在一定条件下图像层3树脂充分交联固化，增加耐温性能，基材层1为pvc、pvc、pp、petg、pc、abs材料中的任意一种或者两种以上复合材料、且厚度12～400微米,由于包含有与图像层3中微纳米光栅结构图案10相匹配的特定图案9，可达到防止图像被完整复制的效果，印刷层4厚度为0.5～10微米,纳米涂层5为硫化锌、铝、铜、锌、锡，氟化镁、二氧化硅、硫化硒材料中的任意一种、且厚度200～500埃, 所述印刷层4包含有特定图案，于印刷层4涂布纳米涂层5，可达到增加图像的亮度的效果，纳米涂层5上涂布一层uv保护层6，提升膜片的耐溶剂性能，防止纳米图层5被洗去，uv保护层6材质为聚氨酯丙烯酸酯与羟基丙烯酸树脂、且厚度为0.5～10微米,所述背胶层7为热熔胶、且厚度为0.5～10微米。
26.防复制镭射防伪膜制作方法步骤如下，选用一款合适的pet膜作为基材层1，厚度12-25μm，在pet膜上涂布有成份为反应型的聚氨酯树脂的固化涂料以形成图像层3，厚度一般为0.8～1.5μm，然后对pet膜的涂层面进行电晕(目的是增加与介质的结合力，也可以省略该操作)。随后在图像层3上模压微纳米光栅结构图案10如图2所示，与此同时使用与图像层3性质相似的聚氨酯体系油墨联机凹印另一特定图案9以形成印刷层4如图3所示，将印刷后特定图案9覆盖在图像层的微纳米光栅结构图案10上如图4所示。
27.在印刷层4的表面真镀介质层形成纳米涂层5，纳米涂层5采用高反射金属或金属化合物及其纳米复合材料进行涂覆，以增加印刷层4的图案亮度(真空镀铝比较常用)，形成
防复制功能的防伪膜8。如果微纳米光栅结构图案 10被拿去复制，拷贝，首先要洗掉纳米涂层5，即使纳米涂层5被酸碱腐蚀后，印刷层4、印有防伪图案的图像层3等被暴露，印刷层4与图像层3由于互相粘结，微纳米光栅结构图案10不能被完整复制，且得到的微纳米光栅结构10图案只能为图5所示，仿制者如果要伪造产品需要0误差对微纳米光栅结构图案10进行套印，这在实际操作中二次套印难以完成，实际仿制效果会如图6出现偏差，所以这一工序也能可以起到一定的防止复制的作用。
28.模压工序完成后，使用聚氨酯丙烯酸酯与羟基丙烯酸树脂体系的uv油墨在纳米涂层5图案之上涂布并进行uv灯照射以固化油墨，此uv保护层6主要是为了提高膜片的耐酸、碱、有机溶剂的性能，使用酸洗、碱洗等工序无法有效除去这一涂层，而使用酮类等强有机溶剂虽然可以部分溶解这一涂层，但这也会导致印刷层4、图像层3损坏，无法实现完整复制。在uv保护层6 上继续涂布厚度为2～5μm的热熔胶即可完成(该工艺也可以在终端使用客户端完成，用于完成在纸张，卡片上面的贴合)。
29.此防伪膜片图像层与uv保护层之间增设与图像层化学组成近似的油墨印刷特定图案的印刷层，即使纳米涂层等无机镀层被洗去，图像层的光栅结构也无法被完整复制，保证包装膜片的防伪效果。
30.需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
31.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。