技术特征：
1.一种防复制镭射防伪膜，其特征在于，包括依次设置基材层、图像层、印刷层、纳米涂层、uv保护层及背胶层，所述印刷层包含有与图像层中微纳米光栅结构图案相匹配的特定图案。2.根据权利要求1所述的一种防复制镭射防伪膜，其特征在于,所述基材层与图像层之间设置底涂层，所述底涂层材质为丙烯酸、且厚度为0.5～5微米。3.根据权利要求1所述的一种防复制镭射防伪膜，其特征在于,所述图像层为设置有微纳米光栅结构图案的聚氨酯树脂涂层、且厚度为0.5～10微米。4.根据权利要求3所述的一种防复制镭射防伪膜，其特征在于,所述印刷层厚度为0.5～10微米。5.根据权利要求1所述的一种防复制镭射防伪膜，其特征在于,所述基材层材料为pvc、pvc、pp、petg、pc、abs任意一种，所述基材层厚度12～400微米。6.根据权利要求1所述的一种防复制镭射防伪膜，其特征在于,所述纳米涂层材质为硫化锌、铝、铜、锌、锡，氟化镁、二氧化硅、硫化硒材料中的任意一种，所述纳米涂层厚度为200～500埃。7.根据权利要求1所述的一种防复制镭射防伪膜，其特征在于,所述uv保护层厚度为0.5～10微米。8.根据权利要求1所述的一种防复制镭射防伪膜，其特征在于,所述背胶层为热熔胶层、且厚度为0.5～10微米。
技术总结
本实用新型公开了一种防复制镭射防伪膜，包括括依次设置基材层、图像层、印刷层、纳米涂层、UV保护层及背胶层。该防复制镭射防伪膜，通过在纳米涂层设置特定图案以形成印刷层，即印刷层包含特定图案，且印刷层使用与图像层化学组成近似的油墨进行印刷特定图案，可实现图像层与印刷层对图案进行无误差套印，起到一定的防止复制的作用。防止复制的作用。防止复制的作用。
技术研发人员：黄斗兴 李盛林 曹慧芬
受保护的技术使用者：上海宏盾防伪材料有限公司
技术研发日：2021.09.06
技术公布日：2022/4/13