1.一种用于药物合成的反应釜清洗工艺，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1，在反应釜使用完毕后，先将碱液倒入反应釜中，关闭反应釜并在30～120℃下保持密闭1～5h，之后倒出废碱液，再使用纯化水冲洗一次，得到碱洗后的反应釜；
步骤2，将乙醇溶液加入至所述碱洗后的反应釜中，关闭反应釜，在30～80℃下保持密闭1～5h，之后倒出废乙醇溶液，再使用纯化水冲洗一次，得到醇洗后的反应釜；
步骤3，将洗涤剂加入至所述醇洗后的反应釜，关闭反应釜，在80～150℃下保持密闭1～6h，之后倒出废洗涤剂，再使用纯化水冲洗三次，干燥后，最终完成反应釜的清洗。
2.根据权利要求1所述的一种用于药物合成的反应釜清洗工艺，其特征在于，所述步骤1中，碱液为0.1～0.5mol/l的氢氧化钠/氢氧化钾溶液。
3.根据权利要求1所述的一种用于药物合成的反应釜清洗工艺，其特征在于，所述步骤2中，乙醇溶液的质量分数为30～70％。
4.根据权利要求1所述的一种用于药物合成的反应釜清洗工艺，其特征在于，所述步骤3中，洗涤剂的成分按照重量份，由以下成分组成：
30～50份纯化水、10～15份低取代羟丙甲纤维素、5～8份磷酸氢二钾、3～5份聚二甲基二烯丙基氯化铵和1～8份表面活性剂。
5.根据权利要求4所述的一种用于药物合成的反应釜清洗工艺，其特征在于，所述表面活性剂为非离子表面活性剂和/或阴离子表面活性剂。
6.根据权利要求5所述的一种用于药物合成的反应釜清洗工艺，其特征在于，所述非离子表面活性剂包括烷基酚的聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚和脂肪酸甲酯聚氧乙烯醚中的一种或多种。
7.根据权利要求5所述的一种用于药物合成的反应釜清洗工艺，其特征在于，所述阴离子表面活性剂为烷基类阴离子表面活性剂；所述烷基类阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠和/或十二烷基磺酸钠。
8.根据权利要求1所述的一种用于药物合成的反应釜清洗工艺，其特征在于，所述步骤1得到的废碱液能够通过使用碳纳米管沉淀剂处理后重复利用。
9.根据权利要求1所述的一种用于药物合成的反应釜清洗工艺，其特征在于，所述步骤2得到的废乙醇溶液能够通过旋转蒸发回收后重复利用。
10.根据权利要求8所述的一种用于药物合成的反应釜清洗工艺，其特征在于，所述碳纳米管沉淀剂由石墨烯与碳纳米管进行杂化处理得到。