1.一种石英晶片生产用清洗装置，包括晶片清洗槽(1)和石英晶片(2)，其特征在于：还包括液压升降旋转贴合清洗机构(3)，所述晶片清洗槽(1)的内腔设置有石英晶片(2)，所述石英晶片(2)和液压升降旋转贴合清洗机构(3)活动连接，所述液压升降旋转贴合清洗机构(3)设置在晶片清洗槽(1)的内腔和顶部位置；
所述液压升降旋转贴合清洗机构(3)包括液压泵(31)、减速电机(32)、输出转轴(33)、安装转板(34)、稳固连接杆(35)、清洗棉安装板(36)、压缩清洗棉(37)、侧边环挡板(38)、放置棉(39)和支撑台(310)；
所述液压泵(31)的底端固定安装有减速电机(32)，所述减速电机(32)的底部中心通孔处活动连接有输出转轴(33)，所述输出转轴(33)的底端固定安装有安装转板(34)，所述安装转板(34)的底端固定安装有稳固连接杆(35)，所述稳固连接杆(35)的底端固定连接有清洗棉安装板(36)，所述清洗棉安装板(36)的底部固定安装有压缩清洗棉(37)，所述清洗棉安装板(36)的侧部外表面固定安装有侧边环挡板(38)，所述压缩清洗棉(37)设置在侧边环挡板(38)的内侧，所述压缩清洗棉(37)的底部活动连接有放置棉(39)，所述石英晶片(2)设置在压缩清洗棉(37)和放置棉(39)的连接处，所述放置棉(39)固定安装在支撑台(310)的顶部。
2.根据权利要求1所述的一种石英晶片生产用清洗装置，其特征在于：所述支撑台(310)的底部固定安装有支撑杆(4)，所述支撑杆(4)固定安装在底座(7)的顶部。
3.根据权利要求1所述的一种石英晶片生产用清洗装置，其特征在于：所述晶片清洗槽(1)的一侧底部开设的孔洞处固定安装有排水管(5)，所述排水管(5)的外表面固定安装有水泵(6)。
4.根据权利要求3所述的一种石英晶片生产用清洗装置，其特征在于：所述水泵(6)的一侧和底部分别与晶片清洗槽(1)的一侧和底座(7)的顶部固定连接。
5.根据权利要求4所述的一种石英晶片生产用清洗装置，其特征在于：所述晶片清洗槽(1)的底部和底座(7)的顶部固定连接。
6.根据权利要求5所述的一种石英晶片生产用清洗装置，其特征在于：所述液压泵(31)的两侧通过支撑架(8)和底座(7)的顶部两侧固定连接。