基板清洗刷的制作方法

1.本实用新型涉及半导体加工技术领域，尤其涉及一种基板清洗刷。


背景技术：

2.用于半导体集成电路的晶圆需进行多次不同工序的加工，例如对晶圆进行光刻胶的涂布和显影、对晶圆进行湿法刻蚀等等。在进行不同批次、不同工序之间，往往需要对工艺设备和晶圆进行清洗，且清洗是半导体制造过程中频次较高的工艺环节，清洗是为了降低可能存在的污染对晶圆产生影响，减少致使产品良率降低的可能性。
3.为了保证晶圆或基板清洗的洁净度，除了对晶圆或基板的上下面进行清洗之外，通常还需要对晶圆或基板的侧面进行清洗。现有技术中对基板的侧面进行清洗时通常通过直筒面的基板刷进行清洗，在使用的过程中，将清洗液或或者水流喷射至基板刷上，清洗液或水流顺着基板刷的侧面向下流动，对抵接在基板刷的直筒面上的基板的侧面进行清洗。
4.但是现有技术中这种清洗刷会存在清洗效果不佳的问题，因此需要设计一种清洗效果好的基板清洗刷。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于提供一种基板清洗刷，用以改善现有技术中清洗刷清洗效果不佳的问题。
6.为实现上述目的，本实用新型提供了一种基板清洗刷，所述清洗刷为旋转体，所述清洗刷沿其轴向按顺序设有的第一清洗面、第二清洗面和第三清洗面；所述第一清洗面和所述第三清洗面为锥面或弧面。
7.本技术的基板清洗刷的有益效果在于：通过将所述清洗刷设置为旋转体，便于在清洗刷对基板进行清洗时带动清洗刷进行转动，且转动过程中清洗刷上作用基板的各个位置与基板的相对距离不会发生改变，使得清洗效果均匀、质量一致；通过沿所述清洗刷的轴向依次设置所述第一清洗面、所述第二清洗面和所述第三清洗面，并将所述第一清洗面和所述第三清洗面设置为锥面或弧面，清洗时通过第二清洗面与基板的侧面进行抵接，通过第一清洗面输入清洗液或者水流，通过第三清洗面输出清洗后的清洗液或者水流，能够调整清洗刷上清洗液或水流的流入流出基板的流向，使得清洗液或者水流以非垂直于基板的顶面或底面的方向流入流出，能够促使基板上的污染物跟随清洗液或者水流进行流动，清洗效果更高，解决现有技术中清洗效果不佳的问题。
8.在一种可行的实施例中，所述第一清洗面沿所述清洗刷的轴向向所述第二清洗面靠近的方向直径逐渐减小，所述第三清洗面沿所述清洗刷的轴向向所述第二清洗面远离的方向直径逐渐增大。其有益效果在于：以所述第一清洗面、第二清洗面和所述第三清洗面从上之下的方向设置为例，这样使得所述第一清洗面为从上至下直径逐渐变小的锥面或者弧面，当基板设置在清洗刷的左侧时，靠近基板的一侧所述第一清洗面上的清洗液或者水流从左上侧向右下侧流向所述第二清洗面，对基板的侧面和顶面的接壤处形成从左至右的清
洗作用力，促使基板上污染物向右下侧运动，同时在所述第二清洗面的作用下，对基板的侧面进行清洗，同理在所述基板的侧面与底面的接壤处清洗液或水流产生右上至坐下的作用力，能够顺利的将基板的侧面以及与侧面靠近的区域的污染物清洗掉，清洗效果好。
9.在一种可行的实施例中，所述第一清洗面和所述第三清洗面结构相同，且所述第一清洗面和所述第三清洗面对称设置。其有益效果在于：这样设置能够促使经过所述第一清洗面、所述第二清洗面和所述第三清洗面的清洗液或者水流形成一个对称的回路，促使清洗液或者水流稳定，使得清洗效果上下一致。
10.在一种可行的实施例中，所述第一清洗面与所述第二清洗面之间设有第四清洗面，所述第三清洗面与所述第二清洗面之间设有第五清洗面，所述第四清洗面和所述第五清洗面结构相同且对称设置。其有益效果在于：水平设置所述第四清洗面和所述第五清洗面能够对所述基板侧面附近的上下侧侧面进行清洗，同时使得清洗液或者水流以水平的方向流入流出所述第二清洗面，当倾斜设置所述第四清洗面和所述第五清洗面时能够对流入流出第二清洗面的清洗液或者水流进行过渡导向。
11.在一种可行的实施例中，所述第四清洗面与所述第一清洗面之间设有圆角；所述第五清洗面与所述第三清洗面之间设有圆角。其有益效果在于：设置圆角能够对清洗液或者水流的流向进行导向。
12.在一种可行的实施例中，所述第一清洗面、所述第二清洗面和所述第三清洗面构成所述清洗刷的清洗面组，所述清洗面组沿所述清洗刷的轴向至少设置为两个。其有益效果在于：这样设置能够在一个清洗面组使用一定时间后通过另一个清洗面组进行清洗，能够设置不同的清洗面摩擦系数提升清洗效果，也可以延长清洗刷的使用寿命。
13.在一种可行的实施例中，相邻的所述清洗面组之间设有过渡面。其有益效果在于：设置过渡面便于清洗液或者水流由一个清洗面组流向另一个清洗面组。
14.在一种可行的实施例中，所述第一清洗面和所述第三清洗面均为凹面。
15.在一种可行的实施例中，所述第二清洗面的截面呈c字形。
附图说明
16.图1为本实用新型第一种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图；
17.图2为本实用新型第二种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图；
18.图3为本实用新型第三种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图；
19.图4为本实用新型第四种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图；
20.图5为本实用新型第五种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图；
21.图6为本实用新型第六种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图；
22.图7为本实用新型第七种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图；
23.图8为本实用新型第八种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图；
24.图9为本实用新型第九种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图；
25.图10为本实用新型第十种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图；
26.图11为本实用新型第十一种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图；
27.图12为本实用新型第十二种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图；
28.图13为本实用新型第十三种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图；
29.图14为本实用新型第十四种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图；
30.图15为本实用新型第十五种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图；
31.图16为本实用新型第十六种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图；
32.图17为本实用新型第十七种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图；
33.图18为本实用新型第十八种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图；
34.图19为本实用新型第十九种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图；
35.图20为本实用新型第二十种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图。图中标号：
36.1、第一清洗面；
37.2、第二清洗面；
38.3、第三清洗面；
39.4、第四清洗面；
40.5、第五清洗面；
41.6、过渡面。
具体实施方式
42.为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。除非另外定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本文中使用的“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。
43.针对现有技术存在的问题，本实用新型的实施例提供了一种基板清洗刷。
44.图1为本实用新型第一种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图，图2为本实用新型第二种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图，图3为本实用新型第三种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图，图4为本实用新型第四种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图。
45.本实用新型一些实施例中，参考图1至图4，该所述清洗刷为旋转体，所述清洗刷沿其轴向按顺序设有的第一清洗面1、第二清洗面2和第三清洗面3；所述第一清洗面1为锥面或弧面，所述第三清洗面3为锥面或弧面。
46.本实用新型一些具体实施例中，基板在清洗时水平设置，所述清洗刷用于对基板的侧面进行清洗，故清洗刷竖直设置，所述第一清洗面1、所述第二清洗面2和所述第三清洗面3沿所述清洗刷的轴向从上至下设置，所述第一清洗面1和所述第三清洗面3均为锥面，所述第二清洗面2为圆柱面或直筒面。
47.使用时将基板的侧面与第二清洗面2抵接，使用电机带动基板和所述清洗刷分别转动，向所述第一清洗面1上通清洗液或者水流，清洗液或水流顺着第一清洗面1流向第二清洗面2，之后由所述第二清洗面2流向所述第三清洗面3，且清洗液或者水流在流动的过程中存在靠近或远离清洗刷轴心的过程，使得清洗液或者水流能够产生水平方向的分力。
48.在一些实施例中，所述第一清洗面1和所述第三清洗面3均设置为弧面。
49.在一些实施例中，所述第一清洗面1和所述第三清洗面3中的一个设置为弧面，另一个设置为锥面。
50.在一些实施例中，所述第一清洗面1、所述第二清洗面2和所述第三清洗面3沿从下至上的顺序设置。
51.在一些实施例中，所述旋转体指平面曲线以同一平面内的一条直线作为旋转轴进行旋转所形成的立体几何图形。在一些具体的实施例中，所述第一清洗面1、所述第二清洗面2和所述第三清洗面3的切面线条围绕旋转轴旋转构成圆周铺满的所述旋转体。
52.在一些实施例中，所述第二清洗面2设置为弧形。
53.本实用新型一些实施例中，参考图1至图4，所述第一清洗面1沿所述清洗刷的轴向向所述第二清洗面2靠近的方向直径逐渐减小，所述第三清洗面3沿所述清洗刷的轴向向所述第二清洗面2远离的方向直径逐渐增大。
54.本实用新型一些具体实施例中，所述第一清洗面1和所述第二清洗面2均设置为锥面，所述第一清洗面1沿从上至下的方向直径逐渐变小，所述第三清洗面3沿从上之下的方向直径逐渐增大。
55.在一些实施例中，所述第一清洗面1和所述第二清洗面2均设置为弧面，所述第一清洗面1沿从上至下的方向直径逐渐变小，所述第三清洗面3沿从上之下的方向直径逐渐增大。
56.在一些实施例中，所述第一清洗面1和所述第三清洗面3结构相同，且所述第一清洗面1和所述第三清洗面3对称设置。
57.图5为本实用新型第五种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图，图6为本实用新型第六种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图，图7为本实用新型第七种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图，图8为本实用新型第八种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图。
58.本实用新型一些实施例中，参考图1至图8，所述第一清洗面1与所述第二清洗面2之间设有第四清洗面4，所述第三清洗面3与所述第二清洗面2之间设有第五清洗面5，所述第四清洗面4和所述第五清洗面5结构相同且对称设置。
59.本实用新型一些具体实施例中，所述第四清洗面4和所述第五清洗面5均与水平面平行设置，所述第四清洗面4设置于所述第二清洗面2的上侧，所述第五清洗面5设置于所述第二清洗面2的下侧。
60.在一些实施例中，所述第四清洗面4和所述第五清洗面5设置为上下对称的锥面。
61.图9为本实用新型第九种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图，图10为本实用新型第十种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图，图11为本实用新型第十一种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图，图12为本实用新型第十二种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图。
62.本实用新型一些实施例中，参考图1至图12，所述第一清洗面1、所述第二清洗面2和所述第三清洗面3构成所述清洗刷的清洗面组，所述清洗面组沿所述清洗刷的轴向至少设置为两个。
63.本实用新型一些具体实施例中，所述清洗面组沿竖直方向上下设置为两个。
64.在一些实施例中，所述清洗面组沿竖直方向设置为三个或四个。
65.在一些实施例中，所述清洗面组包括第一清洗面1、第二清洗面2，第三清洗面3、第四清洗面4和第五清洗面5。
66.图13为本实用新型第十三种实施例中基板清洗刷的立体结构示意图，图14为本实用新型第十四种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图。
67.在一些实施例中，参考图11至图14，所述第四清洗面4与所述第一清洗面1之间设有圆角，所述第五清洗面5与所述第三清洗面3之间设有圆角。
68.图15为本实用新型第十五种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图，图16为本实用新型第十六种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图，图17为本实用新型第十七种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图，图18为本实用新型第十八种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图，图19为本实用新型第十九种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图，图20为本实用新型第二十种实施例中基板清洗刷的正视结构示意图。
69.本实用新型一些实施例中，参考图1至图20，相邻的所述清洗面组之间设有过渡面6。
70.本实用新型一些具体实施例中，所述过渡面6设置为圆柱面，所述过渡面6的上侧与前一个所述清洗面组的第三清洗面3接壤，所述过渡面6的下侧与后一个所述清洗面组的第一清洗面1接壤。
71.在一些实施例中，所述第一清洗面1和所述第三清洗面3均为凹面。
72.在一些实施例中，所述第一清洗面1和所述第三清洗面3均为凸面。
73.在一些实施例中，参考图15至图20，所述第二清洗面2的截面呈c字形。
74.虽然在上文中详细说明了本实用新型的实施方式，但是对于本领域的技术人员来说显而易见的是，能够对这些实施方式进行各种修改和变化。但是，应理解，这种修改和变化都属于权利要求书中所述的本实用新型的范围和精神之内。而且，在此说明的本实用新型可有其它的实施方式，并且可通过多种方式实施或实现。