1.一种气体引导机构，其特征在于，包括孔板(1)和与所述孔板(1)连接的多个气相管(2)，其中：
所述孔板(1)上设有与多个所述气相管(2)一一对应的多个通孔，所述孔板(1)用于与吸收器管箱(3)连接；
所述气相管(2)的第一端部插接于所述通孔中，所述气相管(2)的第二端部具有多个出气孔(21)，所述第二端部用于伸入碳化硅管(4)，以将进入所述吸收器管箱(3)内的工业气体直接导入所述碳化硅管(4)。
2.根据权利要求1所述的气体引导机构，其特征在于，所述气相管(2)的第一端部贯穿所述通孔并与所述孔板(1)焊接。
3.一种碳化硅降膜吸收器，其特征在于，包括吸收器管箱(3)、四氟管板(5)和多个碳化硅管(4)，还包括如权利要求1或2所述的气体引导机构，其中：
所述气体引导机构中的孔板(1)与所述吸收器管箱(3)连接，所述气体引导机构中多个气相管(2)的第二端部一一对应的伸入多个所述碳化硅管(4)中；
多个所述碳化硅管(4)通过所述四氟管板(5)与所述吸收器管箱(3)连接。
4.根据权利要求3所述的碳化硅降膜吸收器，其特征在于，所述四氟管板(5)上设有与多个所述碳化硅管(4)一一对应插接的多个四氟分布管(6)，所述四氟分布管(6)用于将所述吸收器管箱(3)内的吸收液导入所述碳化硅管(4)。
5.根据权利要求4所述的碳化硅降膜吸收器，其特征在于，所述四氟分布管(6)的管壁具有多个用于进入吸收液的进液孔(61)。
6.根据权利要求5所述的碳化硅降膜吸收器，其特征在于，所述进液孔(61)的轴线垂直于所述碳化硅管(4)的轴线。
7.根据权利要求4所述的碳化硅降膜吸收器，其特征在于，所述四氟分布管(6)具有相互连通的第一插孔(62)和第二插孔(63)，所述第一插孔(62)的轴线与所述第二插孔(63)的轴线重合，且所述第一插孔(62)的直径小于所述第二插孔(63)的直径，所述碳化硅管(4)伸入所述第二插孔(63)与所述四氟分布管(6)插接。
8.根据权利要求4所述的碳化硅降膜吸收器，其特征在于，所述四氟分布管(6)与所述四氟管板(5)螺纹连接。
9.根据权利要求3所述的碳化硅降膜吸收器，其特征在于，所述吸收器管箱(3)包括通过连接组件(7)依次连接的上封头(31)、中壳体(32)和下封头(33)，所述上封头(31)和所述中壳体(32)之间夹设有所述孔板(1)。
10.根据权利要求9所述的碳化硅降膜吸收器，其特征在于，所述孔板(1)与所述中壳体(32)之间设有弹性圈。