直接成像设备的无掩膜数字光刻平台高度和角度调节装置的制作方法

直接成像设备的无掩膜数字光刻平台高度和角度调节装置
【技术领域】
1.本技术涉及光耦合、集成电路、印制电路板自动化设备技术领域，尤其涉及直接成像设备的无掩膜数字光刻平台高度和角度调节装置。


背景技术：

2.无掩膜数字直接成像设备，是一种通过dmd技术，利用光波通过技术进行电路图像转移设备，印制线路板的质量、精度很大程度上取决于光刻的质量。现有的无掩膜数字直接成像设备包括基座，基座上没有可上下和角度移动的工作平台，现有的无掩膜数字直接成像设备通过设置软件控制光斑，而光控制涉及庞大的成本，因此，现有方案存在成本高、精度不够，无法灵活调整的问题。


技术实现要素：

3.本实用新型针对现有的无掩膜数字直接成像设备通过电机在基座实现工作平台的上下或0～5度的精密移动，避免成本高、精度不够，无法灵活调整，且容易损坏的问题作出改进，提供直接成像设备的无掩膜数字光刻平台高度和角度调节装置，包括基座，所述基座上设有第一滑动机构和第二滑动机构，所述第一滑动机构和所述第二滑动机构上设有斜推机构，所述斜推机构在所述第一滑动机构沿第一方向移动时使所述第二滑动机构沿第二方向移动，所述第一方向与所述第二方向相互垂直。
4.作为上述直接成像设备的无掩膜数字光刻平台高度和角度调节装置的一种改进，所述斜推机构的数量为多个，多个所述斜推机构沿所述第一滑动机构的周侧间隔分布。
5.作为上述直接成像设备的无掩膜数字光刻平台高度和角度调节装置的一种改进，所述斜推机构包括设置在所述第一滑动机构与所述所述第二滑动机构两者中一者上的斜推滑轨，以及设置在另一者上与所述斜推滑轨滑动配合的斜推滑座，所述斜推滑轨与所述第一方向的夹角小于90
°
。
6.作为上述直接成像设备的无掩膜数字光刻平台高度和角度调节装置的一种改进，所述第一滑动机构包括设置在所述基座上的第一滑轨以及设置在所述斜推机构上与所述第一滑轨滑动配合的第一滑座，所述第一滑轨沿所述第一方向延伸，所述第一滑座上设有使其沿所述第一滑轨移动的第一动力机构。
7.作为上述直接成像设备的无掩膜数字光刻平台高度和角度调节装置的一种改进，所述第一滑座包括多个与所述第一滑轨滑动配合的滑块，以及连接所述滑块与所述斜推机构的第一支撑座。
8.作为上述直接成像设备的无掩膜数字光刻平台高度和角度调节装置的一种改进，所述第一滑轨的数量为多个，多个所述第一滑轨在所述基座上平行设置。
9.作为上述直接成像设备的无掩膜数字光刻平台高度和角度调节装置的一种改进，所述第二滑动机构包括设置在所述基座与所述斜推机构两者中一者上的第二滑座，以及设置在另一者上与所述第二滑座滑动配合的第二滑轨，所述第二滑座沿所述第二方向延伸。
10.作为上述直接成像设备的无掩膜数字光刻平台高度和角度调节装置的一种改进，所述第二滑座设置在所述基座上，所述基座与所述第二滑座之间连接有第二支撑座，所述第二支撑座上设有加强筋。
11.与现有技术相比，本实用新型具有如下优点：
12.本实用新型提供了直接成像设备的无掩膜数字光刻平台高度和角度调节装置，包括基座、设于基座上的第一滑动机构和第二滑动机构以及在第一滑动机构沿水平方向移动时使第二滑动机构沿竖直方向移动的斜推机构，此结构实现了水平运动与垂直运动的转换，有效提高光刻平台上下移动的动力，延长产品的使用寿命。
【附图说明】
13.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
14.图1为本技术直接成像设备的无掩膜数字光刻平台高度和角度调节装置的结构示意图；
15.图2为图1中a处的局部放大图。
【具体实施方式】
16.为了使本技术所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
17.如图1
‑
2所示的直接成像设备的无掩膜数字光刻平台高度和角度调节装置，包括基座1，所述基座1上设有可沿第一方向移动的第一滑动机构2和可沿第二方向移动的第二滑动机构3，所述第一滑动机构2和所述第二滑动机构3上设有斜推机构4，所述第二滑动机构3上设有光刻平台，所述斜推机构4在所述第一滑动机构2沿第一方向移动时使所述第二滑动机构3沿第二方向移动，所述第一方向与所述第二方向相互垂直，其中，所述第一方向为水平方向，所述第二方向为竖直方向。此结构通过所述斜推机构4将所述第一滑动机构2的水平运动转换成所述第二滑动机构3的竖直运动，有效提高光刻平台上下移动的动力，延长产品的使用寿命。
18.进一步地，作为本发明的优选实施方式而非限定，所述斜推机构4的数量为多个，多个所述斜推机构4沿所述第一滑动机构2的周侧间隔分布，具体地，由图可知，所述斜推机构4的数量为4个，四个所述斜推机构4在所述第一滑动机构2的周侧对称设置。此结构进一步提高光刻平台上下移动的动力，进一步延长产品的使用寿命。
19.进一步地，作为本发明的优选实施方式而非限定，所述第一滑动机构2包括设置在所述基座1上的第一滑轨21以及设置在所述斜推机构4上与所述第一滑轨21滑动配合的第一滑座22，所述第一滑轨21沿所述第一方向延伸，所述第一滑座22上设有使其沿所述第一滑轨21移动的第一动力机构，具体地，所述第一动力机构为气缸。此结构实现了水平移动，且结构简单，实施方便。
20.进一步地，作为本发明的优选实施方式而非限定，所述第一滑座22包括多个与所述第一滑轨21滑动配合的滑块221，以及连接所述滑块221与所述斜推机构4的第一支撑座
222。此结构提高了所述第一支撑座222水平移动的稳定性以及移动精度。
21.进一步地，作为本发明的优选实施方式而非限定，所述第一滑轨21的数量为多个，多个所述第一滑轨21在所述基座1上平行设置。具体地，由图可知，所述第一滑轨21的数量为2个。此结构进一步提高了所述第一支撑座222水平移动的稳定性以及移动精度。
22.进一步地，作为本发明的优选实施方式而非限定，所述斜推机构4包括设置在所述第一滑动机构2与所述所述第二滑动机构3两者中一者上的斜推滑轨41，以及设置在另一者上与所述斜推滑轨41滑动配合的斜推滑座42，所述斜推滑轨41与所述第一方向的夹角小于90
°
。具体地，由图可知，所述斜推滑轨41设置在所述第一支撑座222上，所述斜推滑座42设置在所述第二滑动机构3上。此结构通过倾斜设置的所述斜推滑轨41和所述斜推滑座42实现了水平运动与竖直运动的转换，且结构简单，实施方便。
23.进一步地，作为本发明的优选实施方式而非限定，所述第二滑动机构3包括设置在所述基座1与所述斜推机构4两者中一者上的第二滑座31，以及设置在另一者上与所述第二滑座31滑动配合的第二滑轨32，所述第二滑座31沿所述第二方向延伸。具体地，由图可知，所述第二滑座31设置在所述基座1上，所述第二滑轨32设置在所述斜推滑座42上。此结构实现了竖直移动，且结构简单，实施方便。
24.进一步地，作为本发明的优选实施方式而非限定，所述基座1与所述第二滑座31之间连接有第二支撑座5，所述第二支撑座5上设有加强筋6。此结构提高了所述第二滑座31连接的稳定性，提高移动的精度。
25.应当理解的是，本技术中采用术语“第一”、“第二”等来描述各种信息，但这些信息不应限于这些术语，这些术语仅用来将同一类型的信息彼此区分开。例如，在不脱离本技术范围的情况下，“第一”信息也可以被称为“第二”信息，类似的，“第二”信息也可以被称为“第一”信息。此外，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
26.如上所述是结合具体内容提供的一种或多种实施方式，并不认定本技术的具体实施只局限于这些说明。凡与本技术的方法、结构等近似、雷同，或是对于本技术构思前提下做出若干技术推演，或替换都应当视为本技术的保护范围。