技术特征：
1.一种预防混管检测系统，其特征在于，包括半导体材料加工设备、设置模块和报警模块，所述半导体材料加工设备包括：设置在所述半导体材料加工设备左侧表面凸出位置的上料平台（11）、位于所述上料平台（11）下方后侧的料叉（20）、位于所述上料平台(11)上方后侧的进料轨道(10)、位于所述进料轨道(10)右侧的第一模具轨道（14）和第二模具轨道（19）、以及位于所述第一模具轨道（14）和所述第二模具轨道（19）下方的下料机构（15）；所述报警模块包括常闭继电器和常开手动复位开关；所述上料平台（11）、进料轨道（10）、第一模具轨道（14）、第二模具轨道（19）下料机构以及料叉（20）处均设置有检测点，所述检测点处均设置有传感器，并且所有所述传感器与所述设置模块电连接，所述传感器用于检测各检测点是否留有上一批次产品；所述报警模块与所有所述传感器电连接，所述报警模块用于在所述传感器检测异常时产生报警。2.根据权利要求1所述的一种预防混管检测系统，其特征在于，所述检测点分别设置在所述上料平台（11）的底部、所述进料轨道（10）的支撑板底部、所述第一模具轨道（14）和第二模具轨道（19）的内平台、所述下料机构（15）的右壁以及所述料叉（20）的底部。3.根据权利要求1所述的一种预防混管检测系统，其特征在于，所述设置模块的包括四个信号灯，分别用于指示手动停机、自动停机、报警停机以及异常停机这四种停机状态。4.根据权利要求1所述的一种预防混管检测系统，其特征在于，所述上料平台（11）、料叉（20）、以及第一模具轨道（14）和第二模具轨道（19）处分别安装有一个传感器，所述进料轨道（10）处安装有两个传感器，下料机构（15）处安装有一个传感器和一个光纤放大器（8）。5.根据权利要求4所述的一种预防混管检测系统，其特征在于，所述上料平台（11）、料叉（20）、进料轨道（10）以及第一模具轨道（14）和第二模具轨道（19）处的传感器是反射光电式传感器；所述下料机构（15）处的传感器是反射光纤传感器。6.根据权利要求1所述的一种预防混管检测系统，其特征在于，所述继电器是24v继电器。7.根据权利要求1所述的一种预防混管检测系统，其特征在于，所述常开手动复位开关设置在所述上料平台（11）一侧。8.根据权利要求7所述的一种预防混管检测系统，其特征在于，所述常开手动复位开关用于在操作人员确认各检测点无多余产品后，对设备进行强制启动。
技术总结
本实用新型涉及公开了一种预防混管检测系统，属于自动检测技术领域。包括半导体材料加工设备、设置模块和报警模块，所述半导体材料加工设备包括上料平台、进料轨道、第一模具轨道和第二模具轨道、下料机构以及料叉；所述报警模块包括常闭继电器和常开手动复位开关，所述上料平台、进料轨道、第一模具轨道和第二模具轨道、下料机构以及料叉处均设置有传感器，实现了实时检测各检测信号源位置有无异常，对有异常的情况及时作出停机报警处理，及时的预防了混管的产生，减少了操作人员的工作量，提高了工作效率以及产品的质量，并且采用的上述技术方案不涉及改动设备的安全风险，也不涉及影响产品质量和监控的方式。不涉及影响产品质量和监控的方式。不涉及影响产品质量和监控的方式。
技术研发人员：何江 何伟 陈太兵
受保护的技术使用者：成都先进功率半导体股份有限公司
技术研发日：2021.10.28
技术公布日：2022/3/8