技术特征：
1.一种标片结构，其特征在于，用于及时检测出光学缺陷检测机台的异常光强减弱缺陷，所述标片结构包括：衬底；光阻图形层，位于衬底的第一表面，包括预设数量间隔分布的缺陷图形；其中，所述光学缺陷检测机台根据比较所述标片的检测图像及预设图像的结果判断是否存在所述异常光强减弱缺陷；所述标片的所述检测图像为所述光学缺陷检测机台拍摄所述第一表面获取的图像。2.根据权利要求1所述的标片结构，其特征在于，所述光阻图形层的材料包括有机材料。3.根据权利要求2所述的标片结构，其特征在于，至少一相邻所述缺陷图形之间的间隙暴露出所述第一表面。4.根据权利要求3所述的标片结构，其特征在于，所述间隙的数量与所述预设数量相等。5.根据权利要求1-4任一项所述的标片结构，其特征在于，所述异常光强减弱缺陷包括异常光源缺陷及/或异常光路缺陷。6.根据权利要求1-4任一项所述的标片结构，其特征在于，所述衬底包括硅衬底、硅锗衬底、硅锗碳衬底、绝缘体上硅衬底及绝缘体上硅锗衬底中至少一种。7.一种光学缺陷检测系统，其特征在于，包括：权利要求1-5任一项所述的标片结构；以及光学缺陷检测机台，用于根据比较所述标片的所述检测图像及预设图像的结果判断是否存在异常光强减弱缺陷；所述标片的所述检测图像为所述光学缺陷检测机台拍摄所述标片的衬底的第一表面获取的图像。8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述异常光强减弱缺陷包括异常光源缺陷及/或异常光路缺陷。9.一种检测方法，其特征在于，基于权利要求1-5任一项所述的标片结构实现，所述检测方法包括：在设置权利要求1-5任一项所述的标片结构之后，控制光学缺陷检测机台拍摄所述标片的衬底的第一表面获取所述标片的检测图像；比较所述标片的检测图像及预设图像，并根据比较结果判断是否存在异常光强减弱缺陷。10.根据权利要求9所述的检测方法，其特征在于，所述异常光强减弱缺陷包括异常光源缺陷及/或异常光路缺陷。
技术总结
本申请涉及一种标片结构、光学缺陷检测系统及方法，其特征在于，用于及时检测出光学缺陷检测机台的异常光强减弱缺陷，所述标片结构包括：衬底；光阻图形层，位于衬底的第一表面，包括预设数量间隔分布的缺陷图形；其中，所述光学缺陷检测机台根据比较所述标片的检测图像及预设图像的结果判断是否存在所述异常光强减弱缺陷；所述标片的所述检测图像为所述光学缺陷检测机台拍摄所述第一表面获取的图像。采用本申请所述方法可以及时发现检测系统中出现的光强减弱问题，从而更大程度上避免晶圆缺陷漏检的情况，从而提高半导体产品的良率。从而提高半导体产品的良率。从而提高半导体产品的良率。
技术研发人员：吴志文 许平康
受保护的技术使用者：上海积塔半导体有限公司
技术研发日：2022.06.23
技术公布日：2022/10/11