技术特征：1.一种触控基板，包括形成在显示区域的显示结构层和形成在扇出区域的扇出结构层，所述扇出结构层包括多条信号引出线，其特征在于，所述扇出结构层上设置有覆盖所述信号引出线的保护层。2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述保护层仅设置在所述扇出结构层上，所述保护层的材料包括氮化硅、氧化硅或氮化硅/氧化硅的复合层。3.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述保护层设置在所述显示结构层和扇出结构层上，所述保护层的材料包括树脂。4.根据权利要求1～3任一所述的触控基板，其特征在于，所述保护层的厚度为5.根据权利要求1～3任一所述的触控基板，其特征在于，所述扇出结构层包括：设置在基底上的栅引出线，覆盖所述栅引出线的第一绝缘层，设置在所述第一绝缘层上的数据引出线，覆盖所述数据引出线的第二绝缘层，设置在所述第二绝缘层上的信号引出线；所述保护层覆盖所述信号引出线，第三绝缘层设置在所述保护层上；或者，第三绝缘层覆盖所述信号引出线，所述保护层设置在所述第三绝缘层上。6.一种触控面板，其特征在于，包括如权利要求1～5任一所述的触控基板。7.一种触控基板的制备方法，其特征在于，包括：在基底上形成位于显示区域的显示结构层和位于扇出区域的扇出结构层，所述扇出结构层包括多条信号引出线；在所述扇出结构层上形成覆盖所述信号引出线的保护层。8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，在所述扇出结构层上形成覆盖所述信号引出线的保护层，包括：在显示结构层和扇出结构层上涂覆一层光刻胶；对光刻胶进行曝光并显影，保留所述显示结构层上的光刻胶；沉积绝缘层后，通过光刻胶剥离工艺去除所述显示结构层上的光刻胶和所述光刻胶上的绝缘层，在所述扇出结构层上形成覆盖所述信号引出线的保护层。9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，在所述扇出结构层上形成覆盖所述信号引出线的保护层，包括：在显示结构层和扇出结构层上涂覆一层绝缘层；对所述绝缘层进行退火固化处理，在所述显示结构层和扇出结构层上形成保护层。10.根据权利要求7～9任一所述的制备方法，其特征在于，所述保护层的厚度为当前第2页1 2 3