1.一种增大过孔层的过孔坡度角的方法，包括光刻步骤和刻蚀步骤，光刻步骤包括光刻胶涂胶步骤、真空干燥步骤、软烘步骤、曝光显影步骤；在光刻胶涂胶步骤中，将光刻胶涂覆在膜层上，其特征在于：
在真空干燥步骤中，延长抽真空时间20％至50％，光刻胶上部硬度大于下部硬度；在曝光显影步骤中，光刻胶经曝光显影形成上宽中窄下宽的光刻胶过孔，光刻胶形成凸出的中部；
在刻蚀步骤中，光刻胶凸出的中部先被灰化，光刻胶过孔下方的整个膜层表面以接近一致的速度灰化，形成坡度角为60°至90°的过孔层过孔。
2.如权利要求1所述的一种增大过孔层的过孔坡度角的方法，其特征在于：在所述真空干燥步骤中，逐渐抽出工艺腔室的空气直至真空，所述光刻胶上部的溶剂从表面开始蒸发。
3.如权利要求1所述的一种增大过孔层的过孔坡度角的方法，其特征在于：在所述软烘步骤中，用热板将工艺腔室升温，所述光刻胶下部的溶剂从底面开始蒸发。
4.如权利要求1所述的一种增大过孔层的过孔坡度角的方法，其特征在于：在所述刻蚀步骤中，所述光刻胶与膜层形成过孔层过孔后的弧形边缘与膜层底面的相交处的切面与所述膜层底面所成的夹角为所述过孔坡度角。
5.如权利要求1所述的一种增大过孔层的过孔坡度角的方法，其特征在于：在所述真空干燥步骤中，延长抽真空时间最佳为35％。