具有高吸附性的晶片切割用吸附式治具的制作方法与工艺

文档序号:13082857阅读:来源:国知局
技术特征:
1.一种具有高吸附性的晶片切割用吸附式治具,适用于连接至一个抽气装置,该具有高吸附性的晶片切割用吸附式治具包含一个吸附头座及一个弹性接触层,该吸附头座包括一个连接至该抽气装置的基座本体、多个分别贯穿该基座本体的两相反侧面的第一通孔,及一个形成于该基座本体的顶面且连通所述第一通孔的容置凹槽,该弹性接触层设置于该容置凹槽,并包括一个呈水平的接触面,及多个贯穿该接触面且分别连通所述第一通孔的第二通孔,其特征在于:该吸附头座还包括一个形成于该基座本体底面并环绕界定出一个中岛的沟槽,所述第一通孔分布于该沟槽与该中岛。2.根据权利要求1所述的具有高吸附性的晶片切割用吸附式治具,其特征在于:该具有高吸附性的晶片切割用吸附式治具还包含一个支撑单元,该支撑单元包括多个设置于该基座本体且紧抵于该弹性接触层边缘的挡墙。3.根据权利要求2所述的具有高吸附性的晶片切割用吸附式治具,其特征在于:该弹性接触层还包括多个形成于该接触面且呈纵横交错地分别围绕所述第二通孔的主切割槽。4.根据权利要求3所述的具有高吸附性的晶片切割用吸附式治具,其特征在于:所述挡墙呈L字形,每一个挡墙具有一个设置于该基座本体顶面的水平板部,及一个由该水平板部向上延伸且紧抵于该弹性接触层边缘的垂直板部。5.根据权利要求4所述的具有高吸附性的晶片切割用吸附式治具,其特征在于:每一个挡墙还具有多个形成于该垂直板部且分别连通于所述主切割槽的副切割槽。6.根据权利要求2所述的具有高吸附性的晶片切割用吸附式治具,其特征在于:该支撑单元还包括多个分别将所述挡墙锁固于该基座本体的锁固件。7.根据权利要求1所述的具有高吸附性的晶片切割用吸附式治具,其特征在于:该弹性接触层还包括多个形成于该接触面且分别围绕所述第二通孔的气槽。8.根据权利要求7所述的具有高吸附性的晶片切割用吸附式治具,其特征在于:位于该中岛的所述第一通孔与相对应的第二通孔及气槽共同界定出一个内吸附区,位于该沟槽的所述第一通孔与相对应的第二通孔及气槽共同界定出一个外吸附区。9.根据权利要求1至8中任一权利要求所述的具有高吸附性的晶片切割用吸附式治具,其特征在于:该弹性接触层的材质为橡胶。
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