1.一种被配置为确定沉积布置的状态的设备，包括：
检查装置，所述检查装置被配置为检测沉积在基板和基板支撑件中的至少一个上的材料的至少一部分；以及
处理器，所述处理器被配置为基于所述材料的由所述检查装置检测到的所述部分来确定所述沉积布置的状态。
2.如权利要求1所述的设备，其中所述处理器被配置为控制所述基板支撑件的输送装置以使材料在所述基板支撑件的表面上移动。
3.如权利要求1或2所述的设备，其中所述处理器被配置为基于与标称状态的偏差来确定所述沉积布置的所述状态。
4.如权利要求3所述的设备，其中所述处理器被配置为当所述偏差小于阈值偏差时确定所述沉积布置的正常状态，并且其中所述处理器被配置为当所述偏差大于所述阈值偏差时确定所述沉积布置的非正常状态。
5.如权利要求1至4中任一项所述的设备，其中所述检查装置被配置为检测所述材料的沉积在所述基板支撑件的在所述基板的边缘处的区域中的所述部分。
6.如权利要求1至5中的任一项所述的设备，其中所述检查装置进一步被配置为检测在沉积工艺之后所述基板的状态和在所述基板上的沉积图案的质量中的至少一个。
7.一种用于制造太阳能电池的系统，包括：
沉积布置，所述沉积布置被配置为在基板上沉积材料；以及
如权利要求1至6中任一项所述的设备。
8.如权利要求7所述的系统，其中所述沉积布置被配置用于丝网印刷并包括丝网，并且其中所述处理器被配置为确定所述丝网的状态。
9.如权利要求7或8所述的系统，所述系统进一步包括：
运输布置，所述运输布置被配置为用于运输所述基板，其中所述检查装置设在所述运输布置处。
10.一种用于确定沉积布置的状态的方法，包括：
检测沉积在基板和基板支撑件中的至少一个上的材料的至少一部分；以及
基于所述材料的检测到的部分来确定沉积布置的状态。
11.如权利要求10所述的方法，所述方法进一步包括：
如果所述材料的所述检测到的部分对应于与标称状态的小于阈值偏差的偏差，则确定所述沉积布置的正常状态，以及
如果所述材料的所述检测到的部分对应于与所述标称状态的大于所述阈值偏差的偏差，则确定所述沉积布置的非正常状态。
12.如权利要求11所述的方法，其中所述正常状态包括以下状态中的至少一种：其中在所述基板支撑体上不存在材料的状态和其中沉积在所述基板上的图案的准确度在设定范围内的状态。
13.如权利要求10至12中任一项所述的方法，所述方法进一步包括：
检测所述基板支撑件的在所述基板的边缘处的区域；以及
基于在所述基板支撑件的所述区域中检测到的所述材料的量来确定所述沉积布置的所述状态。
14.如权利要求10至13中任一项所述的方法，所述方法进一步包括：
基于所述材料的所述检测到的部分来确定所述沉积布置的故障。
15.一种计算机可读存储介质，包括用于实现如权利要求10至14中任一项所述的方法的计算机可执行指令。