晶圆处理装置的制作方法

本实用新型涉及半导体技术领域，尤其涉及一种晶圆处理装置。

背景技术：

在半导体机台后段真空管路部分位置会使用波纹管，波纹管有时会发生微漏的现象。当真空阀打开抽低压或者工艺反应时，波纹管在吸力下会发生形变而产生微漏。机台真空管路泄露空气进入反应腔会导致产品异常甚至报废。

现有技术在进行反应腔侧漏时，需要关闭真空阀，再进行反应腔测漏。此时由于没有吸力的作用，波纹管不会发生形变而使得微漏消失，压力计则无法测出漏率异常。

因此，如何准确检测波纹管的微漏是亟待解决的问题。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题是，提供一种晶圆处理装置，能够准确测量真空管路的微漏。

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种晶圆处理装置，包括：处理腔室；抽真空单元，所述抽真空单元包括真空泵以及连接所述真空泵与处理腔室的真空管路，所述真空管路包括至少一段波纹管；气体浓度检测仪，用于检测特定气体的浓度，通过一支管路连通至所述真空管路，用于对所述真空管路内的特定气体浓度进行检测。

可选的，还包括：控制单元，连接至所述处理腔室，用于控制所述处理腔室内的处理工艺；所述气体浓度检测仪还与所述控制单元之间具有通信连接，用于向所述控制单元发送特定气体浓度的检测结果。

可选的，当所述气体浓度检测仪检测到的特定气体浓度含量超出阈值时，所述控制单元用于停止所述处理腔室内的处理工艺。

可选的，所述真空管路上设置有真空阀，用于控制所述真空管路的通断。

可选的，所述真空管路上还设置有压力计。

可选的，所述支管路与真空管路的连接处位于所述波纹管与真空泵之间。

可选的，所述连接处与波纹管之间的距离小于所述连接处与真空泵之间的距离。

可选的，所述气体浓度检测仪为氧气浓度检测仪。

本实用新型的晶圆处理装置包括抽真空单元和与真空管路连接的气体浓度检测仪，在抽真空单元进行抽真空的过程中，通过检测真空管路内特定气体的浓度判断晶圆处理装置是否漏气，避免波纹管微漏被漏检的问题。

附图说明

图1为本实用新型一具体实施方式的晶圆处理装置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型提供的晶圆处理装置的具体实施方式做详细说明。

请参考图1，为本实用新型一具体实施方式的晶圆处理装置的结构示意图。

所述晶圆处理装置包括：处理腔室110、抽真空单元120以及气体浓度检测仪130。

所述处理腔室110用于对晶圆进行半导体工艺处理，例如，沉积工艺、刻蚀工艺、退火工艺等。在一个具体实施方式中，所述晶圆处理装置为炉管装置，所述处理腔室110为炉管腔室，晶圆通过晶舟送入所述处理腔室110内进行半导体工艺处理。

在进行半导体工艺处理的过程中，需要对所述处理腔室110进行抽真空或低压，以去除所述处理腔室110内的杂质气体，因此，所述晶圆处理装置还包括抽真空单元120。所述抽真空单元120包括真空泵121以及连接所述真空泵121与处理腔室110的真空管路122，所述真空管路122包括至少一段波纹管123。

所述真空管路122连通至所述处理腔室110，用于对所述处理腔室110内抽真空或抽低压。该具体实施方式中，真空管路122包括一段波纹管123，在其他具体实施方式中，所述真空管路122可以包括两段以上间隔设置的波纹管123。所述波纹管123在吸力作用下容易发生形变而产生微漏，因此，只有在所述抽真空单元120进行抽真空的过程中，才能检测出波纹管123的微漏。

所述真空管路122上还设置有真空阀124，用于控制所述真空管路122的通断。所述真空管路122上还设置有压力计125，用于检测所述真空管路122内的气压。

所述晶圆处理装置还包括气体浓度检测仪130，通过一支管路131连通至所述真空管路122，用于对所述真空管路122内的特定气体浓度进行检测。所述特定气体为空气成分中的一种。当所述真空管路122密封，且进行抽真空过程中，所述真空管路122内的空气含量会逐渐下降至微量或0。而当所述真空管路122漏气，此时真空泵121在抽气过程中，外界空气就会进入所述真空管路122内导致所述真空管路122内的特定气体含量异常。空气主要包括氧气和氮气，而且氧气浓度易于检测，因此，可以将氧气作为表征空气的特定气体进行检测。该具体实施方式中，所述气体浓度检测仪130为氧气检测仪。在其他具体实施方式中，所述气体浓度检测仪130也可以为用于检测空气中其他气体成分的检测仪。

如果所述波纹管123具有微漏问题，在真空单元120抽真空的过程中，所述波纹管123会发生形变而导致漏气，空气会进入所述真空管路122内。气体浓度检测仪130通过检测所述真空管路122内的特定气体浓度，就可以确定抽真空单元120发生漏气。

所述支管路131与真空管路122的连接处位于所述波纹管123与真空泵121之间。如果所述波纹管123有漏气问题，在真空泵121抽真空的过程中，从波纹管123处漏入的气体可以通过所述支管路131及时被所述气体浓度检测仪130检测。更进一步的，所述连接处与波纹管123之间的距离小于所述连接处与真空泵121之间的距离。

所述晶圆处理装置还包括控制单元140，所述控制单元140连接至所述处理腔室110，用于控制所述处理腔室110内的处理工艺；所述气体浓度检测仪130还与所述控制单元140之间具有通信连接，用于向所述控制单元140发送特定气体浓度的检测结果。

所述控制单元140与所述气体浓度检测仪130之间可以通过信号线连接以传输数据，或者所述控制单元140与所述气体浓度检测仪130之间还可以通过无线信号传输的方式建立通信连接，所述无线信号传输可以通过蓝牙、Wifi等实现。当所述气体浓度检测仪130检测到所述真空管路122内的特定气体浓度超出阈值时，所述晶圆处理装置发生漏气，所述控制单元140用于停止所述处理腔室110内的处理工艺。

可以在所述晶圆处理装置进行预检的时候，进行漏气检查，当气体浓度检测仪130检测到所述真空管路122内的特定气体浓度超出阈值时，停止后续待进行的晶圆处理工艺。由于在预检时，晶圆还未进入所述处理腔室110内，及时发现问题，可以避免晶圆由于波纹管123漏气而报废。

上述具体实施方式的晶圆处理装置包括抽真空单元和与真空管路连接的气体浓度检测仪，在抽真空单元进行抽真空的过程中，通过检测真空管路内特定气体的浓度判断晶圆处理装置是否漏气，避免波纹管微漏被漏检的问题。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。