1.一种晶圆处理装置，其特征在于，包括：
处理腔室；
抽真空单元，所述抽真空单元包括真空泵以及连接所述真空泵与处理腔室的真空管路，所述真空管路包括至少一段波纹管；
气体浓度检测仪，用于检测特定气体的浓度，通过一支管路连通至所述真空管路，用于对所述真空管路内的特定气体浓度进行检测。
2.根据权利要求1所述的晶圆处理装置，其特征在于，还包括：控制单元，连接至所述处理腔室，用于控制所述处理腔室内的处理工艺；所述气体浓度检测仪还与所述控制单元之间具有通信连接，用于向所述控制单元发送特定气体浓度的检测结果。
3.根据权利要求2所述的晶圆处理装置，其特征在于，当所述气体浓度检测仪检测到的特定气体浓度含量超出阈值时，所述控制单元用于停止所述处理腔室内的处理工艺。
4.根据权利要求1所述的晶圆处理装置，其特征在于，所述真空管路上设置有真空阀，用于控制所述真空管路的通断。
5.根据权利要求1所述的晶圆处理装置，其特征在于，所述真空管路上还设置有压力计。
6.根据权利要求1所述的晶圆处理装置，其特征在于，所述支管路与真空管路的连接处位于所述波纹管与真空泵之间。
7.根据权利要求6所述的晶圆处理装置，其特征在于，所述连接处与波纹管之间的距离小于所述连接处与真空泵之间的距离。
8.根据权利要求1所述的晶圆处理装置，其特征在于，所述气体浓度检测仪为氧气浓度检测仪。