1.一种基于多维纳米材料的封装膏体的制备方法，其特征在于：所述纳米材料包括至少两种不同维度的纳米金属，包括以下制备步骤：
第一步：在第一纳米金属线，和/或第一纳米金属片表面刻蚀孔洞，形成第二纳米金属线，和/或第二纳米金属片，所述孔洞直径为10nm～40nm；
第二步:采用第一溶剂清洗第一纳米金属颗粒、第二纳米金属线，和/或第二纳米金属片，得到第二纳米金属颗粒、第三纳米金属线，和/或第三纳米金属片；
第三步：混合第二纳米金属颗粒、第三纳米金属线，和/或第三纳米金属片得到第一混合物，将所述第一混合物与第二溶剂混合得到第二混合物；
第四步：浓缩处理第二混合物得到封装膏体。
2.如权利要求1所述的一种基于多维纳米材料的封装膏体的制备方法，其特征在于：第一纳米金属颗粒、第二纳米金属线以及第二纳米金属片的质量比为8-10：3-5：4。
3.如权利要求1所述的一种基于多维纳米材料的封装膏体的制备方法，其特征在于：所述第二纳米金属线长度为30μm～50μm，直径为40nm，所述第二纳米金属片长度为50μm～250μm，厚度为10nm～20nm，所述第一纳米金属颗粒尺寸为10nm～500μm。
4.如权利要求1所述的一种基于多维纳米材料的封装膏体的制备方法，其特征在于：所述纳米金属采用金、银、铜中的一种或多种。
5.如权利要求1所述的一种基于多维纳米材料的封装膏体的制备方法，其特征在于：所述纳米金属颗粒为核壳结构，核部分金属选自金、银、铜，壳部分金属选自锡、铋、铱、钛中的一种或者多种。
6.如权利要求1所述的一种基于多维纳米材料的封装膏体的制备方法，其特征在于：所述刻蚀为干法刻蚀。
7.如权利要求1所述的一种基于多维纳米材料的封装膏体的制备方法，其特征在于：所述第一溶剂包括有机溶剂和清洗剂，所述有机溶剂选自乙醇、异丙醇、丙酮、乙酸乙酯、乙二醇；所述清洗剂选自抗坏血酸、柠檬酸、磷酸二氢钠；所述有机溶剂与所述清洗剂的质量比例为15-25:1。
8.如权利要求1所述的一种基于多维纳米材料的封装膏体的制备方法，其特征在于：所述第一混合物与第二溶剂的质量比为0.5-1：0.2-0.4；所述第二溶剂包括有机酸、树脂、第三溶剂，所述第三溶剂选自乙醇、异丙醇、松油醇、乙二醇、丙三醇、一缩二乙二醇。
9.如权利要求8所述的一种基于多维纳米材料的封装膏体的制备方法，其特征在于：所述有机酸、树脂、第三溶剂的质量比为0.05-0.1:0.01-0.03:0.2-0.5。
10.一种如权利要求1-9所述基于多维纳米材料的封装膏体的制备方法制备的封装膏体，其特征在于：纳米金属占材料重量的75％-85％。