密封型电容含浸机的制作方法

文档序号:24917494发布日期:2021-05-04 10:24阅读:65来源:国知局
密封型电容含浸机的制作方法
本实用新型属于电容设备
技术领域
,具体是一种密封型电容含浸机。
背景技术
:电容器是电子设备中大量使用的电子元件之一,广泛应用于电路中的隔直通交,耦合,旁路,滤波,调谐回路、能量转换、控制等方面,而由于液态电解电容的诸多问题以及电容器行业发展对产品质量要求越来越高,采用导电性高分子材料作为介电材料的固态电容得到更为广泛的应用。而固态电容的生产包括裁切、钉卷、胶盖组立、熔接、化成、含浸、聚合、封口组立、浸泡、捺印、老化、外观检验、切脚和包装等步骤,现有含浸机普遍采取加压平面密封,这种密封方式需要经常更换密封装置,对含浸机磨损较大,含浸机使用寿命较短。为解决现有电容含浸机密封磨损较大、寿命较短的问题,有必要提出一种密封型电容含浸机。技术实现要素:鉴于
背景技术
提出的问题,本实用新型的目的是提出一种密封型电容含浸机,旨在解决现有电容含浸机密封磨损较大、寿命较短的问题。为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:一种密封型电容含浸机,包括:机架,所述机架包括第一安装架和设置于所述第一安装架上方的第二安装架;含浸装置,所述含浸装置包括安装在所述第一安装架上的含浸池和设置于所述含浸池中的芯包夹具,所述含浸池为四边凸起、中心内凹的方形池状结构,所述含浸池的下表面抵接所述第一安装架,所述含浸池的四边上表面与所述第二安装架平齐,所述含浸池四边均形成有凹槽;密封装置,所述密封装置包括盖设于所述含浸池上的含浸上盖、设置于所述凹槽内的环形密封圈以及对所述环形密封圈进行充气和排气的气压机构,所述含浸上盖尺寸与所述含浸池上表面尺寸相同。优选地,所述第二安装架上安装有移行导轨,所述移行导轨的一端与所述含浸池边缘平齐,所述含浸上盖侧边安装有移行滑块,所述移行滑块在所述移行导轨上滑动。优选地,所述移行导轨长度为所述含浸池宽度两倍,所述移行滑块移行至所述移行导轨远离所述含浸池的端头时,所述含浸上盖完全脱离所述含浸池。优选地,所述密封型电容含浸机还包括上盖位移气缸和上盖位移伸缩杆,所述上盖位移气缸安装在所述第二安装架上,所述上盖位移伸缩杆两端分别连接所述上盖位移气缸和所述含浸上盖。优选地,所述凹槽为15mm*15mm的方形凹槽。优选地,所述含浸装置数量为两个,两个所述含浸装置间隔设置于所述机架上。本实用新型的有益效果主要包括:含浸池中盛放有含浸液,含浸工序未开始时,含浸上盖敞开,芯包夹具放置于含浸池没入含浸液中,随后闭合含浸上盖,并对设置于凹槽内的环形密封圈进行充气,含浸上盖与含浸池之间的缝隙被充气后的环形密封圈填满并形成一个密闭空间,芯包夹具在其中进行含浸工序。根据各电容含浸工艺要求的时间不同,在含浸工序完成后,对环形密封圈进行排气,并将含浸上盖打开,取出含浸完成的芯包夹具,完成一个完整含浸工序循环。利用含浸上盖的闭合和打开,以及环形密封圈的充排气,按时对含浸池实现密封以便完成芯包夹具在含浸池中的含浸,密封可靠,含浸机的磨损较小、寿命较长。附图说明图1为本实用新型一实施例密封型电容含浸机一角度的结构示意图;图2为本实用新型一实施例密封型电容含浸机另一角度的结构示意图。附图标号说明:标号名称标号名称10机架30密封装置11第一安装架31含浸上盖12第二安装架311移行滑块121移行导轨312上盖位移气缸20含浸装置313上盖位移伸缩杆21含浸池32环形密封圈211凹槽具体实施方式下面结合附图,对本实用新型作进一步的说明,以便于本领域技术人员理解本实用新型。需要说明,本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。另外,在本实用新型中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。本实用新型中对“上”、“下”、“前”、“后”、“左”“右”等方位的描述以图1和图2中所示的方位为基准,仅用于解释在图1和图2所示姿态下各部件之间的相对位置关系,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相对应地随之改变。本实用新型提出一种密封型电容含浸机,如图1和图2所示,密封型电容含浸机包括机架10、含浸装置20、密封装置30,其中,机架10包括第一安装架11和设置于第一安装架11上方的第二安装架12;含浸装置20包括安装在第一安装架11上的含浸池21和设置于含浸池21中的芯包夹具(图未示),含浸池21为四边凸起、中心内凹的方形池状结构,含浸池21的下表面抵接第一安装架11,含浸池21的四边上表面与第二安装架12平齐,含浸池21四边均形成有凹槽211;密封装置30包括盖设于含浸池21上的含浸上盖31、设置于凹槽211内的环形密封圈32以及对环形密封圈32进行充气和排气的气压机构(图未示),含浸上盖31尺寸与含浸池21上表面尺寸相同。具体地,如图1和图2所示,含浸池21中盛放有含浸液,含浸工序未开始时,含浸上盖31敞开,芯包夹具放置于含浸池21没入含浸液中,随后闭合含浸上盖31,并对设置于凹槽211内的环形密封圈32进行充气,含浸上盖31与含浸池21之间的缝隙被充气后的环形密封圈32填满并形成一个密闭空间,芯包夹具在其中进行含浸工序。根据各电容含浸工艺要求的时间不同,在含浸工序完成后,对环形密封圈32进行排气,并将含浸上盖31打开,取出含浸完成的芯包夹具,完成一个完整含浸工序循环。利用含浸上盖31的闭合和打开,以及环形密封圈32的充排气,按时对含浸池21实现密封以便完成芯包夹具在含浸池21中的含浸,密封可靠,含浸机的磨损较小、寿命较长。进一步地,第二安装架12上安装有移行导轨121,移行导轨121的一端与含浸池21边缘平齐,含浸上盖31侧边安装有移行滑块311,移行滑块311在移行导轨121上滑动。如图1所示,含浸池21的前后两条边为长边,左右两条边为短边,移行导轨121有两条,两条移行导轨121均与含浸池21的两条短边平行,移行导轨121的前端与含浸池21的前端的长边平齐,含浸上盖31左右两侧边均安装有移行滑块311,通过移行滑块311在移行导轨121上的滑动来实现含浸上盖31的开启与关闭,简单方便省力。本实施例中,移行导轨121长度为含浸池21宽度两倍,移行滑块311移行至移行导轨121远离含浸池21的端头时,含浸上盖31完全脱离含浸池21。如图1和图2所示,含浸池21短边和含浸上盖31短边长度相同且均为移行导轨121长度的一半,当移行滑块311移动至移行导轨121前端端头时,含浸上盖31恰好完全覆盖含浸池21,当移行滑块311移动至移行导轨121后端端头时,含浸上盖31恰好完全脱离含浸池21,在满足含浸上盖31完全打开和完全闭合需求的前提下,使密封型电容含浸机结构更为紧凑。本实施例中,密封型电容含浸机还包括上盖位移气缸312和上盖位移伸缩杆313,上盖位移气缸312安装在第二安装架12上,上盖位移伸缩杆313两端分别连接上盖位移气缸312和含浸上盖31。具体地,如图1和图2所示,通过上盖位移气缸312来推动上盖位移伸缩杆313进而推动含浸上盖31在移行导轨121上移动,简单省力,同时,根据各电容含浸要求时间不同,可设置上盖位移气缸312按照工艺要求时间自动实现推拉,智能化进行含浸工序。本实施例中,凹槽211为15mm*15mm的方形凹槽211,环形密封圈32越大密封效果越好,但同时开设于第二安装架12上凹槽211越小,安装架结构越稳定,因此,开设15mm*15mm的方形凹槽211既能满足安装架结构稳定要求也满足了容置于凹槽211中的环形密封圈32的密封要求。含浸装置20数量为两个,两个含浸装置20间隔设置于机架10上,有利于提高电容单次含浸量,提升效率。以上内容仅为本实用新型的较佳实施方式,对于本领域的普通技术人员,依据本实用新型的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。当前第1页12
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