1.一种密封型电容含浸机，其特征在于，所述密封型电容含浸机包括：
机架，所述机架包括第一安装架和设置于所述第一安装架上方的第二安装架；
含浸装置，所述含浸装置包括安装在所述第一安装架上的含浸池和设置于所述含浸池中的芯包夹具，所述含浸池为四边凸起、中心内凹的方形池状结构，所述含浸池的下表面抵接所述第一安装架，所述含浸池的四边上表面与所述第二安装架平齐，所述含浸池四边均形成有凹槽；
密封装置，所述密封装置包括盖设于所述含浸池上的含浸上盖、设置于所述凹槽内的环形密封圈以及对所述环形密封圈进行充气和排气的气压机构，所述含浸上盖尺寸与所述含浸池上表面尺寸相同。
2.根据权利要求1所述一种密封型电容含浸机，其特征在于，所述第二安装架上安装有移行导轨，所述移行导轨的一端与所述含浸池边缘平齐，所述含浸上盖侧边安装有移行滑块，所述移行滑块在所述移行导轨上滑动。
3.根据权利要求2所述一种密封型电容含浸机，其特征在于，所述移行导轨长度为所述含浸池宽度两倍，所述移行滑块移行至所述移行导轨远离所述含浸池的端头时，所述含浸上盖完全脱离所述含浸池。
4.根据权利要求3所述一种密封型电容含浸机，其特征在于，所述密封型电容含浸机还包括上盖位移气缸和上盖位移伸缩杆，所述上盖位移气缸安装在所述第二安装架上，所述上盖位移伸缩杆两端分别连接所述上盖位移气缸和所述含浸上盖。
5.根据权利要求1-4中任一项所述一种密封型电容含浸机，其特征在于，所述凹槽为15mm*15mm的方形凹槽。
6.根据权利要求1-4中任一项所述一种密封型电容含浸机，其特征在于，所述含浸装置数量为两个，两个所述含浸装置间隔设置于所述机架上。