技术特征：
1.一种显示面板，其特征在于，包括：阵列基板；平坦化层，设置在所述阵列基板上；阻挡构件，设置所述平坦化层远离所述阵列基板的一面；像素定义层，设置在所述平坦化层远离所述阵列基板的一面，且所述阻挡构件贯穿所述像素定义层，所述像素定义层包括多个开口；发光层，所述发光层包括多个发光部，一所述发光部设置在一所述开口内。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡构件包括多个第一阻挡构件和多个第二阻挡构件，多个所述第一阻挡构件沿第一方向延伸，多个所述第二阻挡构件沿第二方向延伸，所述第一阻挡构件和所述第二阻挡构件交叉形成多个阻挡墙，一所述阻挡墙包围一所述发光部。3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡构件包括多个第一阻挡构件和多个第二阻挡构件，多个所述第一阻挡构件沿第一方向延伸，多个所述第二阻挡构件沿第二方向延伸，所述第一阻挡构件和所述第二阻挡构件交叉形成多个阻挡墙，至少一所述阻挡墙包围一所述发光部且至少一所述阻挡墙包围多个所述发光部。4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡构件包括多个阻挡墙，任意一个所述阻挡墙围绕一所述发光部设置。5.根据权利要求2至4任一项所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡墙为单挡墙结构。6.根据权利要求2至4任一项所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡墙包括第一阻挡墙和第二阻挡墙，所述第一阻挡墙设置在所述平坦化层上，所述第二阻挡墙设置在所述第一阻挡墙靠近或远离所述开口的一侧。7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡构件还包括第三阻挡墙，所述第三阻挡墙设置在所述第二阻挡墙远离所述第一阻挡墙的一面。8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述第一阻挡墙和所述第三阻挡墙的阻挡水氧的能力大于所述第二阻挡墙的阻挡水氧的能力。9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述第一阻挡墙和所述第三阻挡墙的材料包括氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、铝、银、氧化铝或氧化银中的至少一者，所述第二阻挡墙的材料包括氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、铝、银、氧化铝、氧化银和有机聚合物中的至少一者。10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡构件远离所述平坦化层的一面高于所述发光层远离所述平坦化层的一面。11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡构件远离所述平坦化层的一面与所述像素定义层远离所述平坦化层的一面平齐。12.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述平坦化层包括凹槽，所述阻挡构件设置在所述凹槽内。13.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡构件的高度介于0.5微米至3微米。14.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，每一所述发光部均位于所述阻挡构件内。
技术总结
本申请公开了一种显示面板，显示面板包括阵列基板、平坦化层、阻挡构件、像素定义层和发光层。其中，平坦化层设置在阵列基板上。阻挡构件设置平坦化层远离阵列基板的一面。像素定义层设置在平坦化层远离阵列基板的一面，且阻挡构件贯穿像素定义层，像素定义层包括多个开口。发光层包括多个发光部，一发光部设置在一开口内。本申请公开的显示面板可以用于改善由于水氧侵蚀导致的显示面板失效的技术问题。于水氧侵蚀导致的显示面板失效的技术问题。于水氧侵蚀导致的显示面板失效的技术问题。
技术研发人员：ꢀ(74)专利代理机构
受保护的技术使用者：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日：2022.04.27
技术公布日：2022/6/30