偏压装置及基片处理设备的制作方法

1.本发明涉及基片加工技术领域，特别是涉及一种偏压装置及基片处理设备。


背景技术：

2.基片在出厂前可能需要进行多种处理，以满足应用的需求。例如，玻璃作为一种基片，在出厂前进行表面粗化处理，以在玻璃的表面产生防眩光的效果。
3.在一些工艺环节中，由于需要利用电场使等离子体或其他粒子相对基片移动，基片或承载基片的载具等通电对象需要与偏压装置保持电气接触，使基片形成整体电极的一部分。
4.然后，在基片需要相对偏压装置移动的情况下，基片或载具与偏压装置间难以维持良好的接触，导致可能出现基片脱离整体的电极，影响工艺环节的稳定性。


技术实现要素：

5.基于此，有必要针对在基片需要相对偏压装置移动的情况下，基片或载具与偏压装置间难以维持良好的接触，导致可能出现基片脱离整体的电极的问题，提供一种偏压装置及基片处理设备。
6.一种偏压装置，包括：
7.第一支架，用于连接支撑部；
8.轮体组件，活动连接于所述第一支架并能够沿预定方向相对所述第一支架活动；及
9.传导组件，包括活动导体、弹性件及柔性导体；所述活动导体活动连接于所述第一支架并能够沿所述预定方向相对所述第一支架活动；所述弹性件连接于所述活动导体并对所述活动导体产生弹力，以使所述活动导体从背向侧抵持于所述轮体组件；所述柔性导体连接于所述活动导体；所述柔性导体还电连接于偏压电源的电极。
10.上述偏压装置，通电对象沿移动路径移动时，轮体组件与通电对象接触。轮体组件、活动导体及柔性导体分别具有导电性，且处于电连接关系，在柔性导体电连接于偏压电源电极的情况下，能使通电对象的电势与偏压电源电极的电势保持一致。由于轮体组件活动连接于第一支架，且能够沿预定方向相对第一支架活动，在预定方向与移动路径相垂直的情况下，轮体组件能适应通电对象在垂直于移动路径的方向上的位置变化。活动导体在弹性件的弹力作用下对轮体组件产生顶推，从而将轮体组件顶推至通电对象的表面，使活动导体、轮体组件及通电对象表面之间保持稳定接触。在活动导体发生位置变动的情况下，柔性导体通过预留长度而与活动导体保持电气连接，从而能使通电对象始终作为整体电极的一部分，确保针对基片的处理工艺保持稳定。
11.在其中一个实施例中，所述传导组件还包括电连接于所述柔性导体的端帽；所述端帽连接于所述第一支架。
12.在其中一个实施例中，所述第一支架包括主架体及可拆卸连接于所述主架体的锁
定件；所述主架体设有通槽，所述活动导体活动穿设于所述通槽；所述端帽容置于所述锁定件。
13.在其中一个实施例中，所述偏压装置还包括具有绝缘性的第二支架；所述第一支架连接于所述第二支架，以通过所述第二支架连接至支撑部。
14.在其中一个实施例中，所述第一支架与所述第二支架的其中一个设有第一调节孔，另一个设有第一安装孔；所述第一调节孔及所述第一安装孔的位置相配合，以穿设紧固件。
15.在其中一个实施例中，所述第二支架设有第二调节孔；所述第二调节孔的位置与设于所述支撑部的第二安装孔配合，以穿设紧固件。
16.在其中一个实施例中，所述第一支架设有限定槽；所述轮体组件包括轮轴及连接于所述轮轴的主轮体，所述轮轴穿设于所述限定槽；所述限定槽的长度大于所述轮轴的直径；所述活动导体抵持于所述轮轴。
17.在其中一个实施例中，所述轮体组件包括贯穿于所述第一支架的轮轴；所述轮轴的两端分别连接有主轮体。
18.在其中一个实施例中，所述偏压装置还包括罩体；所述第一支架容置于所述罩体；所述轮体组件至少部分地外露于所述罩体。
19.一种基片处理设备，包括偏压装置。
附图说明
20.图1为本发明的一实施例的基片处理设备的立体示意图；
21.图2为图1所示的基片处理设备在另一角度的立体示意图；
22.图3为图2所示的基片处理设备的局部示意图，部分壁板已隐藏；
23.图4为图3所示的基片处理设备中的偏压装置的立体示意图；
24.图5为4图所示的偏压装置的分解示意图；
25.图6为图5所示的偏压装置的局部示意图；
26.图7为图5所示的偏压装置的局部示意图；
27.图8为图7所示的偏压装置的a处放大图；
28.图9为图4所示的偏压装置在装配上罩体后的立体示意图。
29.附图标记：100、基片处理设备；20、腔体装置；21、内腔；22、顶板；23、底板；24、壁板；25、预留口；26、通口；30、移动装置；31、导轮；40、等离子产生装置；50、偏压装置；51、第一支架；511、主架体；512、通槽；513、锁定件；514、第一调节孔；515、限定槽；52、轮体组件；521、轮轴；522、主轮体；53、传导组件；531、活动导体；532、弹性件；533、柔性导体；534、端帽；535、抵靠部；54、第二支架；541、第一安装孔；542、第二调节孔；543、平板部；544、立板部；55、紧固件；56、罩体；57、绝缘护件。
具体实施方式
30.为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不
违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
31.在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
32.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
33.在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
34.在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接地接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接地接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
35.需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
36.下面结合附图介绍本发明实施例提供的技术方案。
37.结合图1至图3所示，本发明提供一种基片处理设备100。
38.在一些实施方式中，基片处理设备100能够对基片进行移料处理、清洗处理、或蚀刻处理。具体地，结合图3所示，基片处理设备100可以具有一个或多个内腔21。基片在进入内腔21后，可以是进行清洗处理、蚀刻处理或其他工艺处理。当基片处理设备100具有一个内腔21时，基片处理设备100可以通过移料处理而使基片进入该内腔21或离开内腔21。当基片处理设备100具有多个内腔21时，基片处理设备100还可以通过移料处理而使基片在离开一个内腔21的同时，进入另一个内腔21。
39.进一步地，基片包括玻璃，或其他成分或性质与玻璃接近的材料。基片可以是呈板状或片状。更具体地，在清洗处理中，基片处理设备100可以是利用惰性气体源或其他清洗气源对待加工基片的待处理表面进行等离子清洗。更具体地，在蚀刻处理中，基片处理设备100可以是利用惰性气体源和含氟气体源或其他蚀刻气源，以对基片的待处理表面进行等离子蚀刻。
40.在一些实施方式中，结合图2及图3所示，基片处理设备100包括腔体装置20，腔体
装置20用于形成内腔21的至少一部分地边界。内腔21的另外一部分边界可以由其它器件形成。进一步地，内腔21中设有处理工位。在需要对基片进行工艺处理时，承载有一个或多个基片的载具移动至处理工位。更具体地，载具能够沿预定路径通过处理工位。更具体地，结合图3所示，腔体装置20包括顶板22、底板23及壁板24。顶板22用于形成腔体装置20的顶部，底板23用于形成底部。两个壁板24之间以板面水平相对设置，壁板24上侧连接至顶板22，下侧连接至底板23。进一步地，其中一个壁板24设有预留口25。进一步地，结合图2所示，另外一个壁板24上形成有用于供基片进入内腔21的通口26。
41.在一些实施方式中，结合图3所示，基片处理设备100包括移动装置30，移动装置30用于执行移料处理，带动基片相对内腔21移动。具体地，移动装置30包括能够转动的多个导轮31及用于带动导轮31转动的驱动器件，导轮31可以设置于内腔21中，载具受导轮31所承载，当导轮31转动时，载具在导轮31的作用下在内腔21中移动。
42.在一些实施方式中，结合图1及图3所示，基片处理设备100包括等离子产生装置40，等离子产生装置40用于产生等离子体。在一个实施方式中，等离子体用于对基片表面进行清洗处理。在另外一个实施方式中，等离子体用于对基片表面进行蚀刻处理。进一步地，等离子产生装置40安装至覆盖预留口25或嵌设于预留口25后，等离子产生装置40能够形成内腔21的另一部分边界。更具体地，对内腔21进行抽真空后，内腔21中形成真空环境，基片在内腔21中进行相应的工艺处理。
43.在一些实施方式中，结合图3所示，基片处理设备100包括偏压电源及偏压装置50。偏压电源设有电极。偏压装置50电连接于偏压电源的电极，并将偏压电源电极的电势传导至通电对象。具体地，通电对象为基片或载具。进一步地，偏压装置50容置于内腔21，以便于与处于处理工位的通电对象接触。更具体地，偏压电源具有正电极及负电极，偏压装置50将负电极的电势传导至通电对象。
44.在一些实施方式中，结合图4及图6所示，偏压装置50包括：第一支架51、轮体组件52及传导组件53。第一支架51用于连接支撑部。轮体组件52活动连接于第一支架51并能够沿预定方向相对第一支架51活动。结合图6及图7所示，传导组件53包括活动导体531、弹性件532及柔性导体533。活动导体531活动连接于第一支架51并能够沿预定方向相对第一支架51活动。弹性件532连接于活动导体531并对活动导体531产生弹力，以使活动导体531从背向侧抵持于轮体组件52。柔性导体533连接于活动导体531。柔性导体533还电连接于偏压电源的电极。
45.具体地，通电对象沿移动路径移动时，轮体组件52与通电对象接触。轮体组件52、活动导体531及柔性导体533分别具有导电性，且处于电连接关系，在柔性导体533电连接于偏压电源电极的情况下，能使通电对象的电势与偏压电源电极的电势保持一致。由于轮体组件52活动连接于第一支架51，且能够沿预定方向相对第一支架51活动，在预定方向与移动路径相垂直的情况下，轮体组件52能适应通电对象在垂直于移动路径的方向上的位置变化。活动导体531在弹性件532的弹力作用下对轮体组件52产生顶推，从而将轮体组件52顶推至通电对象的表面，使活动导体531、轮体组件52及通电对象表面之间保持稳定接触。在活动导体531发生位置变动的情况下，柔性导体533通过预留长度而与活动导体531保持电气连接，从而能使通电对象始终作为整体电极的一部分，确保针对基片的处理工艺保持稳定。
46.对于活动导体531从背向侧抵持于轮体组件52，背向侧可理解为轮体组件52背向于通电对象的部位，活动导体531抵持于轮体组件52的该部位时，能对轮体组件52产生指向于通电对象的作用力。也可理解为，活动导体531对轮体组件52所产生的抵持力能够使轮体组件52靠近通电对象移动。具体地，结合图3所示，支撑部包括腔体装置20的壁板24的局部或腔体装置20的框条部分。
47.对于柔性导体533通过预留长度而与活动导体531保持电气连接，可理解为柔性导体533与活动导体531之间保持低电阻状态，以能在两者之间流通电流。
48.在一些实施方式中，结合图6至图8所示，传导组件53还包括电连接于柔性导体533的端帽534。端帽534连接于第一支架51。具体地，在端帽534具有导电性的情况下，只要端帽534与第一支架51保持连接，即可保证活动导体531在沿预定方向活动至任意位置均能与第一支架51保持电气连接。由于第一支架51具有导电性，因而在端帽534连接于第一支架51后，柔性导体533能够依次通过端帽534、第一支架51及连接于第一支架51的线缆件而电连接于偏压电源的电极。在一个实施方式中，柔性导体533的一端焊接于端帽534，另一端焊接于活动导体531。进一步地，柔性导体533的长度满足活动导体531的活动范围，从而有利于活动导体531始终与轮体组件52保持接触。在一个实施方式中，弹性件532为压缩弹簧，当柔性导体533完全拉直时，弹性件532仍处于压缩状态。更具体地，第一支架51通过线缆件电连接至偏压电源的负电极。在一个实施方式中，活动导体531包括碳刷，以减小对轮体组件52的阻力。
49.进一步地，当活动导体531的活动方向受到第一支架51的限定后，弹性件532的一端抵持于活动导体531，而另一端则抵持于端帽534。对于第一支架51用于抵持端帽534的部位及轮体组件52用于抵持活动导体531的部位，若两者之间的最大距离为第一距离。在柔性导体533的限制下，假定活动导体531远离端帽534的一端与端帽534之间的最大距离为最大长度，若最大长度大于第一距离，则能确保端帽534能在弹性件532的作用下而保持抵靠于第一支架51，无须让端帽534与第一支架51进行额外固定处理。
50.在一些实施方式中，结合图6至图8所示，第一支架51包括主架体511及可拆卸连接于主架体511的锁定件513。主架体511设有通槽512，活动导体531活动穿设于通槽512。端帽534容置于锁定件513。具体地，锁定件513中空设置，以容纳端帽534。锁定件513的内部空间连通于通槽512。由于主架体511与锁定件513可拆卸连接，从而在活动导体531发生磨损后，通过拆卸锁定件513，能将传导组件53进行取出和替换。在一个实施方式中，锁定件513与主架体511螺纹连接。进一步地，端帽534具有两个以上的抵靠部535，抵靠部535用于抵持于锁定件513的内壁，防止端帽534因发生翻转而减少了与第一支架51的接触面积，避免造成电阻的上升。更具体地，两个抵靠部535沿端帽534的中心相对分布。
51.在一些实施方式中，结合图6所示，第一支架51设有限定槽515。结合图6及图7所示，轮体组件52包括轮轴521及连接于轮轴521的主轮体522，轮轴521穿设于限定槽515。在平行于预定方向的维度上，限定槽515的长度大于轮轴521的直径。活动导体531抵持于轮轴521。具体地，结合图6所示，预定方向平行于箭头f1的方向，由于限定槽515的长度大于轮轴521的直径，在限定槽515的宽度不小于轮轴521的直径的情况下，轮轴521在限定槽515宽度方向两侧内壁的限定下沿预定方向移动，从而能适应通电对象的位置变动，让主轮体522与通电对象保持接触。限定槽515的宽度方向垂直于箭头f1的方向。具体地，轮轴521电连接于
主轮体522，更具体地，轮轴521及主轮体522分别采用导电材质。进一步地，通槽512连通至限定槽515，活动导体531在通槽512的限定下能够穿入至限定槽515，以抵持于轮轴521。在弹性件532的弹力作用下，活动导体531将轮轴521及主轮体522往靠近通电对象的方向顶推。
52.在一些实施方式中，结合图4及图7所示，轮体组件52包括贯穿于第一支架51的轮轴521。轮轴521的两端分别连接有主轮体522。具体地，限定槽515贯通设置，且限定槽515的贯通方向垂直于预定方向。通过在轮轴521的两端分别连接主轮体522，通过两个主轮体522与通电对象的接触，提高了轮体组件52与通电对象的接触面积，有利于降低电阻。具体地，结合图6所示，在与预定方向相平行的截面上，轮轴521的边缘呈圆形，因而轮轴521相对活动导体531转动时，轮轴521与导体之间能够保持均匀的接触。进一步地，活动导体531设有弧面，该弧面用于与轮轴521接触，从而增大活动导体531与轮轴521之间的接触面积。当主轮体522的边缘也呈圆形时，能够允许通电对象在抵持于主轮体522的情况下移动，主轮体522在通电对象的表面发生滚动摩擦，同时轮轴521与活动导体531之间也发生着滚动摩擦。由于预定方向垂直于通电对象的表面，且自活动导体531指向通电对象的表面，又由于轮体组件52处于活动导体531与通电对象表面之间，因而在通电对象沿移动路径移动时，通电对象的表面与主轮体522之间能够保持接触。在一个实施方式中，轮轴521与其中一个主轮体522一体成形设置，且轮轴521与另一个主轮体522通过紧固件55固定。
53.在一些实施方式中，结合图4及图7所示，偏压装置50还包括具有绝缘性的第二支架54。第一支架51连接于第二支架54，以通过第二支架54连接至支撑部。具体地，在一些情况下，需要使第一支架51与支撑部之间保持绝缘。例如，当支撑部是腔体装置20，或者是固定连接于腔体装置20的导电部件，由于腔体装置20需要接地处理，以保证操作人员的安全，使支撑部处于接地状态。由于第一支架51电连接于偏压电源的负电极，因而第一支架51与支撑部之间不能电连接，否则会造成短路问题。第一支架51通过具有绝缘性的第二支架54连接至支撑部，从而既能让第一支架51相对于支撑部保持固定安装状态，又能避免第一支架51与支撑部之间出现短路情况。在另外一个实施方式中，还可以是第一支架51通过绝缘垫粘连于支撑部。
54.在一些实施方式中，结合图4及图7所示，第一支架51与第二支架54的其中一个设有第一调节孔514，另一个设有第一安装孔541。第一调节孔514及第一安装孔541的位置相配合，以穿设紧固件55。具体地，第一调节孔514为腰型孔，第一安装孔541为螺孔。在一个实施方式中，第一调节孔514设置于第一支架51，更具体地，是设置于主架体511。第一安装孔541设置于第二支架54。紧固件55从第一支架51背向第二支架54的一侧穿入第一调节孔514后，紧固件55螺纹穿设于第一安装孔541。在将紧固件55收紧前，由于第一调节孔514的长度方向平行于预定方向，因而能在预定方向上调整第一支架51相对于支撑部的距离，确保轮体组件52能够到达通电对象的位置范围。进一步地，第一支架51设有至少两个第一调节孔514，且两个第一调节孔514之间平行设置，从而能使第一支架51沿直线方向相对第二支架54移动。在将紧固件55收紧后，则能第一支架51与第二支架54之间保持固定。在另外一个实施方式中，第一调节孔514设置于第二支架54。第一安装孔541设置于第一支架51。
55.在一些实施方式中，结合图4所示，第二支架54设有第二调节孔542。第二调节孔542的位置与设于支撑部的第二安装孔配合，以穿设紧固件55。具体地，第二调节孔542为腰
型孔，第二安装孔为螺孔。紧固件55从第二支架54背向支撑部的一侧穿设于第二调节孔542后，紧固件55螺纹穿设于第二安装孔。在将紧固件55收紧前，第二调节孔542的延伸方向垂直于预定方向，从而能在与预定方向相垂直的方向上，调整第一支架51与支撑部之间的相对位置。在一个实施方式中，结合图7所示，第二支架54包括平板部543及立板部544，平板部543与立板部544相垂直设置。更具体地，第一安装孔541设置于平板部543，第二调节孔542设置于立板部544。
56.在一些实施方式中，结合图4及图5所示，偏压装置50还包括绝缘护件57，绝缘护件57与第二支架54配合，对线缆件连接至第一支架51的一端进行包围，以避免线缆件外露的金属部分与接地端发生短接。进一步地，紧固件55在连接线缆件的一金属端后，穿设至第一调节孔514。更具体地，绝缘护件57与第二支架54之间通过紧固件55固定连接。紧固件55包括螺钉。
57.在一些实施方式中，结合图9所示，偏压装置50还包括罩体56。第一支架51容置于罩体56。轮体组件52至少部分地外露于罩体56。具体地，罩体56减少了第一支架51或轮体组件52外露于真空环境的面积，避免等离子体因接触第一支架51或轮体组件52而被额外消耗，或避免第一支架51或轮体组件52受等离子体影响而缩短使用寿命。进一步地，罩体56连接于支撑部，且罩体56与第一支架51及轮体组件52之间设有间隙，从而有利于罩体56能够从不同的角度对第一支架51及轮体组件52进行遮盖。更具体地，第二支架54容置于罩体56。
58.在一个实施方式中，轮体组件52沿预定方向移动至不同位置时，轮体组件52外露于罩体56的比例产生变化，且保持一部分外露于罩体56并与通电对象抵靠，从而避免通电对象与罩体56之间发生接触。更具体地，罩体56可以采用绝缘材质。在另外一个实施方式中，轮体组件52能够完全外露于罩体56，并在受到通电对象抵靠时，能够向罩体56内收缩。在又一个实施方式中，轮体组件52的活动范围处于罩体56外。
59.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
60.以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。