1.一种耐腐蚀永磁体，包括
2.根据权利要求1所述的磁体，其中在所述第一层结构和所述第二层结构之间设置有连接层。
3.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述第二层结构的所述无机层是氧化铝层。
4.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述磁体本体是烧结磁体本体。
5.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述磁体本体是稀土金属铁硼永磁体。
6.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述磁体本体是杆状的，其所有边缘都是圆形的。
7.根据权利要求1或2所述的磁体，其中形成所述连接层的至少一个的连接剂选自硅烷，以及具有硫醇、膦或二硫基的硅烷。
8.根据权利要求7所述的磁体，其中所述连接剂选自3-(2-吡啶基乙基)硫丙基三甲氧基硅烷，3-(4-吡啶基乙基)硫丙基三甲氧基硅烷和2-(二苯基膦基)乙基三乙氧基硅烷。
9.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述第一层结构的所述铝层的厚度为0.5μm至15μm，或1μm至10μm，或1μm至5μm。
10.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述第一层结构的所述氧化铝层的厚度为50nm至200nm，或80nm至120nm。
11.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述第一层结构的所述铝层和所述氧化铝层的总厚度在5μm至15μm的范围内。
12.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述连接层中的至少一层是单层，或者其中，所述连接层的厚度在20nm至50nm的范围内。
13.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述第一层结构的由聚(2-氯-对二甲苯)形成的层的厚度在5μm至20μm的范围内。
14.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述复合涂层的厚度不大于200μm。
15.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述复合涂层的所有层完全在所述磁体本体的所有表面上延伸。
16.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述第二层结构的所述铝层的厚度为0.5μm至15μm，或1μm至10μm，或1μm至5μm。
17.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述第二层结构的所述氧化铝层的厚度为50nm至200nm，或80nm至120nm。
18.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述第二层结构的所述铝层和所述氧化铝层的总厚度在5μm至15μm的范围内。
19.根据权利要求1或2所述的磁体，其中所述第二层结构的由聚(2-氯-对二甲苯)形成的层的厚度在5μm至20μm的范围内。
20.根据权利要求14所述的磁体，其中所述复合涂层的厚度不大于50μm。
21.一种用于生产耐腐蚀永磁体的方法，所述方法包括
22.根据权利要求21所述的方法，其中在所述第一层结构上沉积连接层。
23.根据权利要求21或22所述的方法，其中氧化铝层被沉积作为所述第二层结构的所述无机层。
24.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述磁体本体是如权利要求4所限定的磁体本体。
25.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第一层结构的所述氧化铝层是由alx3作为第一前体化合物和h2o作为第二前体化合物形成的，x代表低级烷基，其可以相同或不同，或代表氢原子和低级烷基，其可以相同或不同，或代表卤原子，其可以相同或不同。
26.根据权利要求25所述的方法，其中alx3选自由三甲基铝(tma)、三乙基铝(tea)、三异丁基铝(tiba)、二甲基铝(dmalh)和alcl 3组成的组。
27.根据权利要求21或22所述的方法，其中通过施加使用等离子体的物理气相沉积，或不使用等离子体的物理气相沉积的连接剂，或从溶液中施加连接剂，形成所述连接层的至少一个。
28.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述连接层的至少一个的连接剂是权利要求7所限定的连接剂。
29.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第一层结构的聚(2-氯-对二甲苯)层通过二氯二聚对二甲苯的等离子体沉积形成。
30.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第一层结构的所述层具有如权利要求9所限定的厚度。
31.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述磁体本体是如权利要求5所限定的磁体本体。
32.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述磁体本体是如权利要求6所限定的磁体本体。
33.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第二层结构的所述氧化铝层是由alx3作为第一前体化合物和h2o作为第二前体化合物形成的，x代表低级烷基，其可以相同或不同，或代表氢原子和低级烷基，其可以相同或不同，或代表卤原子，其可以相同或不同。
34.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述连接层的至少一个的连接剂是权利要求8所限定的连接剂。
35.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第二层结构的聚(2-氯-对二甲苯)层通过二氯二聚对二甲苯的等离子体沉积形成。
36.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第一层结构的所述层具有如权利要求10所限定的厚度。
37.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第一层结构的所述层具有如权利要求11所限定的厚度。
38.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第一层结构的所述层具有如权利要求12所限定的厚度。
39.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第一层结构的所述层具有如权利要求13所限定的厚度。
40.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第一层结构的所述层具有如权利要求14所限定的厚度。
41.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第二层结构的所述层具有如权利要求9所限定的厚度。
42.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第二层结构的所述层具有如权利要求10所限定的厚度。
43.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第二层结构的所述层具有如权利要求11所限定的厚度。
44.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第二层结构的所述层具有如权利要求12所限定的厚度。
45.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第二层结构的所述层具有如权利要求13所限定的厚度。
46.根据权利要求21或22所述的方法，其中所述第二层结构的所述层具有如权利要求14所限定的厚度。
47.包括电动马达的血管内血泵，其中，所述电动马达包括如权利要求1或2所述的永磁体。