基板处理装置以及基板处理系统的制作方法

本发明涉及一种基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统。

背景技术：

1、一直以来，提出有对基板依次供给互不相同的处理液来进行处理的基板处理装置。该基板处理装置具有将基板保持为水平姿势的基板保持部、使基板保持部旋转来使基板在水平面内旋转的旋转机构以及从基板的上方喷出处理液的第一喷出喷嘴及第二喷出喷嘴。在俯视观察时，第一喷出喷嘴及第二喷出喷嘴分别从基板的中央附近喷出处理液。

2、当从第一喷出喷嘴向基板喷出第一处理液时，该第一处理液着落于基板的中央附近，受到伴随基板旋转的离心力而在基板上扩展，从基板的周缘飞散。第一处理液可使用sc1液(氨水、过氧化氢水及水的混合液)、sc2液(盐酸、过氧化氢水及水的混合液)、dhf液(稀氢氟酸)等。由此，能够对基板进行与第一处理液相应的处理。

3、接着，进行利用第二处理液的处理。即，将喷出处理液的喷嘴由第一喷出喷嘴切换为第二喷出喷嘴。具体而言，一边停止从第一喷出喷嘴喷出第一处理液，一边开始从第二喷出喷嘴喷出第二处理液。第二处理液着落于基板的中央附近，受到伴随基板旋转的离心力而在基板上扩展，从基板的周缘飞散。作为第二处理液，例如可以采用纯水。由此，能够从基板冲洗第一处理液。

4、另外，还提出有利用相机来监视从喷出喷嘴喷出的处理液的喷出状态的技术(例如专利文献1、专利文献2)。在专利文献1、专利文献2中，利用相机来拍摄包含喷出喷嘴的前端的拍摄区域，并基于该相机的拍摄图像来判定是否正从喷出喷嘴喷出处理液。

5、现有技术文献

6、专利文献

7、专利文献1：日本特开2017-29883号公报

8、专利文献2：日本特开2015-173148号公报

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、在将喷出处理液的喷嘴由第一喷出喷嘴切换为第二喷出喷嘴时，停止从第一喷出喷嘴喷出处理液的喷出停止时刻与开始从第二喷出喷嘴喷出处理液的喷出开始时刻之间的时间差很重要。

3、例如，从第二喷出喷嘴喷出处理液的开始时刻相对于第一喷出喷嘴的喷出停止时刻越迟，则基板的表面越容易局部地干燥(液干涸)。若基板的表面干燥，则可能产生不良状况(例如颗粒的附着)。

4、为了避免该基板的干燥，只要在第一喷出喷嘴的喷出停止时刻之前开始第二喷出喷嘴的喷出即可。例如，在第一处理液的喷出停止期间，第一处理液的喷出量随时间经过而降低，最终成为零。通过在该第一处理液的喷出停止期间开始第二处理液的喷出，能够在基板上不间断地供给处理液，能够降低基板干燥的可能性。

5、然而，若第二喷出喷嘴的喷出开始时刻过早，则会在第一处理液仍以充分的喷出量喷出的状态下，开始喷出第二处理液。此时，供给到基板的处理液的总量变大，处理液在基板上回溅(溅液)。这样的溅液的产生是不优选的。

6、因此，优选以不产生溅液及液干涸的方式调整时间差。

7、另外，上述时间差有时也对是否良好地处理基板造成影响。此时，优选以使处理结果变得良好的方式调整时间差。

8、因此，本技术的目的在于，提供一种能以所需的时间差进行由第一喷嘴向第二喷嘴的切换的基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统。

9、用于解决问题的手段

10、基板处理方法的第一形态为，一种基板处理方法，具有：第一工序，保持基板；第二工序，开始利用相机对包含第一喷嘴的前端及第二喷嘴的前端的拍摄区域进行拍摄，从而生成拍摄图像；第三工序，开始从所述第一喷嘴向所述基板喷出处理液；第四工序，停止从所述第一喷嘴喷出处理液，开始从所述第二喷嘴喷出处理液；第五工序，基于针对所述拍摄图像的图像处理，求出在所述第四工序中开始从所述第二喷嘴喷出处理液的开始时刻与停止从所述第一喷嘴喷出处理液的停止时刻之间的时间差；以及第六工序，判定所述时间差是否在规定范围外，在判定为所述时间差在所述规定范围外时，以使所述时间差处于所述规定范围内的方式，调整所述开始时刻及所述停止时刻中的至少任一者。

11、基板处理方法的第二形态为，在第一形态的基板处理方法中，调整所述停止时刻而不调整所述开始时刻。

12、基板处理方法的第三形态为，在第一形态或第二形态的基板处理方法中，在所述第五工序中，基于所述拍摄图像的各帧(frame)中从所述第一喷嘴的前端向所述第一喷嘴的喷出方向延伸的第一喷出判定区域的像素值，确定所述停止时刻，基于各帧中从所述第二喷嘴的前端向所述第二喷嘴的喷出方向延伸的第二喷出判定区域的像素值，确定所述开始时刻。

13、基板处理方法的第四形态为，在第三形态的基板处理方法中，基于所述第一喷出判定区域的像素值的统计量大于阈值的帧以及作为所述帧的下一帧的所述第一喷出判定区域的统计量小于所述阈值的帧，来确定所述停止时刻，基于所述第二喷出判定区域的像素值的统计量小于所述阈值的帧以及作为所述帧的下一帧的所述第一喷出判定区域的统计量大于所述阈值的帧，确定所述开始时刻。

14、基板处理方法的第五形态为，在第四形态的基板处理方法中，在所述第六工序中，将关于所述第一喷嘴及所述第二喷嘴的表示所述统计量的时间变化的图显示在用户界面上，在对所述用户界面进行针对对象时刻的输入时，根据所述输入来调整所述对象时刻，所述对象时刻为所述开始时刻及所述停止时刻中的至少任一者。

15、基板处理方法的第六形态为，在第一形态至第三形态中的任一形态的基板处理方法中，在所述第五工序中，使用经机器学习的分类器，对于所述第一喷嘴及所述第二喷嘴中的各喷嘴，将所述拍摄图像所包含的各帧分类为处理液的喷出或停止，并基于其分类结果求出所述时间差。

16、基板处理方法的第七形态为，在第六形态的基板处理方法中，基于对所述第一喷嘴分类为喷出的帧以及作为该帧的下一帧的对所述第一喷嘴分类为停止的帧，来确定所述停止时刻，基于对所述第二喷嘴分类为停止的帧以及作为该帧的下一帧的对所述第二喷嘴分类为喷出的帧，来确定所述开始时刻。

17、基板处理方法的第八形态为，在第六形态的基板处理方法中，所述停止时刻在所述开始时刻之后，基于被分类为所述第一喷嘴及所述第二喷嘴两者都喷出处理液的帧的个数以及所述帧之间的时间，求出所述时间差。

18、基板处理方法的第九形态为，在第一形态至第八形态中的任一形态的基板处理方法中，在所述第六工序中，在判定为所述时间差在规定范围外时，将所述时间差在规定范围外的情况报知给作业人员。

19、基板处理方法的第十形态为，在第一形态至第九形态中的任一形态的基板处理方法中，所述停止时刻在所述开始时刻之后，所述基板处理方法还包括第七工序，所述第七工序，基于针对所述拍摄图像的图像处理，来判定是否产生处理液在基板上飞溅的溅液，在判定为产生所述溅液时，以减小所述开始时刻与所述停止时刻之间的时间差的方式，调整所述开始时刻及所述停止时刻中的至少任一者。

20、基板处理方法的第十一形态为，在第十形态的基板处理方法中，在所述第七工序中，使用经机器学习的分类器，将所述拍摄图像的各帧分类为有所述溅液或无所述溅液。

21、基板处理方法的第十二形态为，在第十一形态的基板处理方法中，在所述第七工序中，将所述拍摄图像的各帧中的所述第一喷嘴及所述第二喷嘴的附近的溅液判定区域切出，使用所述分类器，将所述溅液判定区域分类为有无溅液或无溅液。

22、基板处理方法的第十三形态为，在第六形态至第八形态、第十一形态、第十二形态中的任一形态的基板处理方法中，从与所述基板的种类、所述处理液的种类、所述第一喷嘴及所述第二喷嘴的位置以及所述处理液的流量中的至少任一者相应的多个经机器学习的分类器中选择一个分类器，基于所选择的分类器，对所述拍摄图像所包含的各帧进行分类。

23、基板处理方法的第十四形态为，在第十三形态的基板处理方法中，在将所述基板的种类、所述处理液的种类、所述第一喷嘴及所述第二喷嘴的位置以及所述处理液的流量中的至少任一者输入至输入部时，根据对所述输入部的输入，从多个所述分类器中选择一个分类器。

24、基板处理装置的第一形态具有：基板保持部，保持基板，处理液供给部，具有对所述基板喷出处理液的第一喷嘴和对所述基板喷出处理液的第二喷嘴，相机，对包含所述第一喷嘴的前端及所述第二喷嘴的前端的拍摄区域进行拍摄，从而生成拍摄图像，以及控制部；所述控制部，以在开始从所述第一喷嘴向所述基板喷出处理液之后，开始从所述第二喷嘴向所述基板喷出处理液，并停止从所述第一喷嘴向所述基板喷出处理液的方式，控制所述处理液供给部，并且，基于针对所述拍摄图像的图像处理，求出开始从所述第二喷嘴喷出处理液的开始时刻与停止从所述第一喷嘴喷出处理液的停止时刻之间的时间差，在判定为所述时间差在规定范围外时，以使所述时间差处于所述规定范围内的方式，调整所述开始时刻及所述停止时刻中的至少任一者。

25、基板处理装置的第二形态为，在第一形态的基板处理装置中，所述控制部使用经机器学习的分类器，对于所述第一喷嘴及所述第二喷嘴，将所述拍摄图像所包含的各帧分类为表示处理液的喷出或停止的状态的类别，并基于其分类结果来求出所述时间差。

26、基板处理装置的第三形态为，在第二形态的基板处理装置中，所述控制部从与所述基板的种类、所述处理液的种类、所述第一喷嘴及所述第二喷嘴的位置以及所述处理液的流量中的至少任一者相应的多个经机器学习的分类器中选择一个分类器，并且，基于所选择的分类器，对所述拍摄图像所包含的各帧进行分类。

27、基板处理装置的第四形态为，在第三形态的基板处理装置中，具有输入部，所述输入部，用于输入所述基板的种类、所述处理液的种类、所述第一喷嘴及所述第二喷嘴的位置以及所述处理液的流量中的至少任一者，所述控制部根据对所述输入部的输入，从多个所述分类器中选择一个分类器。

28、基板处理系统的形态具有基板处理装置以及与所述基板处理装置通信的服务器，所述基板处理装置具有：基板保持部，保持基板，处理液供给部，具有对所述基板喷出处理液的第一喷嘴和对所述基板喷出处理液的第二喷嘴，相机，对包含所述第一喷嘴的前端及所述第二喷嘴的前端的拍摄区域进行拍摄，生成拍摄图像，以及控制部，以在开始从所述第一喷嘴向所述基板喷出处理液之后，开始从所述第二喷嘴向所述基板喷出处理液，并停止从所述第一喷嘴向所述基板喷出处理液的方式，控制所述处理液供给部；所述基板处理装置及服务器使用经机器学习的分类器，对于所述第一喷嘴及所述第二喷嘴，将所述拍摄图像所包含的各帧分类为表示处理液的喷出或停止的状态的类别，并基于其分类结果，求出开始从所述第二喷嘴喷出处理液的开始时刻与停止从所述第一喷嘴喷出处理液的停止时刻之间的时间差，所述控制部在判定为所述时间差在规定范围外时，以使所述时间差处于所述规定范围内的方式，调整所述开始时刻及所述停止时刻中的至少任一者。

29、发明的效果

30、根据基板处理方法的第一形态、基板处理装置的第一形态，基于针对拍摄图像的图像处理来求出开始时刻与停止时刻之间的时间差，因而能够以高精度求出时间差。因此，能够以高精度将时间差调整至规定范围内。

31、由此，例如，能够大致避免产生处理液在基板上飞溅的溅液以及基板局部地干燥的液干涸。

32、根据基板处理方法的第二形态，能够在不变更从第一喷嘴供给处理液的处理期间的长度的情况下，将时间差设为规定范围内。

33、根据基板处理方法的第三形态，使用第一喷出判定区域及第二喷出判定区域的像素值，因而与对整个拍摄图像进行图像处理的情况相比，能够减轻处理。

34、根据基板处理方法的第四形态，能够通过简易的处理来确定开始时刻及停止时刻。

35、根据基板处理方法的第五形态，作业人员能够目视确认统计量的时间变化，并基于该时间变化来调整时间差。

36、根据基板处理方法的第六形态、基板处理装置的第二形态以及基板处理系统的形态，能够通过机器学习以高精度求出时间差。

37、根据基板处理方法的第七形态，能够适当地确定时间差。

38、根据基板处理方法的第八形态，能够适当地确定时间差。

39、根据基板处理方法的第九形态，作业人员能够认识到时间差在规定范围外。

40、根据基板处理方法的第十形态，能够以可减少溅液产生的方式调整时间差。

41、根据基板处理方法的第十一形态，能够以高精度判定有无溅液。

42、根据基板处理方法的第十二形态，能够提高分类精度。

43、根据基板处理方法的第十三形态及基板处理装置的第三形态，能钩以高精度对各帧进行分类。

44、根据基板处理方法的第十四形态及基板处理装置的第四形态，作业人员能够将信息输入至输入部。