技术特征：1.一种基板处理装置，其中，具有：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，
4.一种基板处理系统，其中，具有基板处理装置以及与所述基板处理装置通信的服务器，
技术总结基板处理方法具有第一工序至第六工序。保持基板(第一工序)。开始利用相机进行拍摄，从而生成拍摄图像(第二工序)。开始从第一喷嘴向基板喷出处理液(第三工序)。停止从第一喷嘴喷出处理液，开始从第二喷嘴喷出处理液(第四工序)。基于针对拍摄图像的图像处理，求出从第二喷嘴喷出处理液的开始时刻与从第一喷嘴喷出处理液的停止时刻之间的时间差(第五工序)。在判定为时间差在规定范围外时，以使时间差处于规定范围内的方式调整开始时刻及停止时刻中的至少任一者(第六工序)。
技术研发人员：樋口鲇美,犹原英司,冲田有史,岩畑翔太,角间央章,增井达哉
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：技术公布日：2024/12/12