显示装置的制造方法_3

文档序号:9515796阅读:来源:国知局
成滤色片和遮光层的工序的图。图7中,与各个发光元件对应地形成使红色波段的光透射的滤色片181、使绿色波段的光透射的滤色片182、使蓝色波段的光透射的滤色片183,在各个滤色片间形成遮光层121。此处,图7中对形成滤色片181、182、183后形成遮光层121的工艺进行了例示,但是不限定于该工艺,也可以在形成遮光层121后形成滤色片122。
[0052]图8是表示在本发明的实施方式2的显示装置的制造方法中形成第二阻挡层的工序的图。图8中,以覆盖滤色片181、182、183和遮光层121的方式形成第二阻挡层230。作为第二阻挡层230能够使用实施方式1中说明的材料。此处,第二阻挡层230的成膜温度优选采用比第二基板200、滤色片181、182、183和遮光层121的玻璃转化温度低的温度。此外,也可以在滤色片181、182、183和遮光层121与第二阻挡层230之间形成缓和滤色片181、182、183和遮光层121的台阶差的外涂层。
[0053]接着,使图5所示的第一支承基板500和图8所示的第二支承基板600隔着密封件150和填充件300粘合。图9是表示在本发明的实施方式2的显示装置的制造方法中使第一支承基板和第二支承基板粘合的工序的图。密封件150和填充件300形成于第一支承基板500或者第二支承基板600。在形成密封件150和填充件300之后,使第一支承基板500和第二支承基板600粘合。第一支承基板500和第二支承基板600的粘合可以在减压氛围下进行。此外,密封件150、填充件300两者或者一者能够使用紫外线照射后慢慢固化的延迟固化型的树脂材料。例如,通过使用利用紫外线照射而固化的延迟固化型的树脂材料,例如即使在第一阻挡层或者第二阻挡层对紫外线的透光性低的情况下也能够使密封件150、填充件300固化。
[0054]图10是表示在本发明的实施方式2的显示装置的制造方法中剥离第一支承基板和第二支承基板的工序的图。如图10所示,通过将第一支承基板500和第二支承基板600分别从第一基板100和第二基板200剥离,能够获得由柔性的第一基板100和第二基板200夹持而形成的显示装置。第一支承基板500和第二支承基板600的剥离,例如能够通过从各个支承基板的背面(与形成有发光元件、滤色片的面相反的面)侧进行激光照射,对两支承基板与柔性基板的界面局部地加热来进行。此外,能够通过在各个支承基板上隔着UV固化性的粘接层形成柔性基板,在柔性基板上形成发光元件和滤色片后从各个支承基板的背面侧进行UV照射,使粘接层改性,来进行剥离。
[0055]如上述,能够得到本发明的实施方式2的柔性的显示装置。
[0056]〈实施方式3〉
[0057]使用图11和12,说明本发明的实施方式3的显示装置的层结构。实施方式3中也与实施方式1同样地说明顶部发光型的柔性显示装置的层结构。
[0058]图11是表示本发明的实施方式3的显示装置的第一阻挡层的层结构的截面图的图。图11中针对图1的第一阻挡层210由层叠膜构成的构造进行例示。如图11所示,第一阻挡层210除第一防湿膜212之外还具有:位于第一防湿膜212与第二基板200之间的、与第一防湿膜212相比与第二基板200的密合性高的第一密合膜211 ;和位于第一防湿膜212与有机层220之间的、与第一防湿膜212相比与有机层220的密合性高的第二密合膜213。
[0059]作为第一密合膜211和第二密合膜213,能够使用S1j莫、S1 xNy膜或者在这些膜中混入有杂质的膜。此外,除了上述的膜以外,作为第一密合膜211和第二密合膜213,还能够使用A10J莫、A10xNy膜、其他的氧化金属膜、氧化氮化金属膜。此处,第一防湿膜212的防湿性比第一密合膜211和第二密合膜213的防湿性高。图11中,例示了在第一防湿膜212的上下配置有第一密合膜211和第二密合膜213的构造,但是不限定于该构造,也可以是例如仅具有第一密合膜211和第二密合膜213中的一者的构造。
[0060]如上所述,即使在第一防湿膜212与第二基板200或有机层220的密合性差的情况下,如实施方式3所示通过导入第一密合膜211和第二密合膜213,能够兼顾良好的密合性和良好的防湿性。此外,例如作为防湿膜212使用SiNj莫、SiN x0y膜的情况下,通过在第二基板200上形成第一密合膜211,能够抑制第二基板200被SiNj莫、SiN x0y膜的成膜中使用的氨气蚀刻。
[0061]图12是表示本发明的实施方式3的显示装置的第二阻挡层的层结构的截面图的图。图12中,例示了图1的第二阻挡层230由层叠膜构成的构造。如图12所示,第二阻挡层230具有位于第二防湿膜232与有机层220之间的、与第二防湿膜232相比与有机层220的密合性高的第三密合膜231。
[0062]作为第三密合膜231,能够使用S1j莫、S1 xNy膜或者在这些膜中混入有杂质的膜。此外,除了上述的膜以外,作为第三密合膜231还能够使用A10J莫、A10xNy膜、其他的氧化金属膜、氧化氮化金属膜。此处,第二防湿膜232的防湿性比第三密合膜231的防湿性尚ο
[0063]如上所述,即使在第二防湿膜232与有机层220的密合性差的情况下,如实施方式3所示,通过导入第三密合膜231,能够兼顾良好的密合性和良好的防湿性。此外,例如,在作为第二防湿膜232使用SiNj莫、SiN x0y膜的情况下,通过在有机层220上形成第三密合膜231,能够抑制有机层220被SiNj莫、SiN x0y膜的成膜中使用的氨气蚀刻。
[0064]如以上所述,根据本发明的实施方式3的发明,通过在第一防湿膜212与第二基板200之间、第一防湿膜212与有机层220之间、和第二防湿膜与有机层220之间分别配置第一至第三密合膜,能够得到良好的密合性。
[0065]此外,本发明不限定于上述的实施方式,在不脱离主旨的范围内能够进行适当变更。
【主权项】
1.一种显示装置,其特征在于,包括: 第一基板; 配置在所述第一基板上的发光元件; 具有防湿性的与所述第一基板相对的第二基板; 第一阻挡层,其配置在所述第二基板上,具有比所述第二基板的防湿性高的防湿性; 有机层,其配置在所述第一阻挡层上的与所述发光元件相对的位置;和 第二阻挡层,其配置在所述有机层上,具有比所述第二基板的防湿性高的防湿性。2.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于: 所述有机层具有使特定波段的光透射的滤色部。3.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于: 所述第一阻挡层包括含有硅和氮的第一防湿膜, 所述第二阻挡层包括含有硅和氮的第二防湿膜。4.如权利要求3所述的显示装置,其特征在于: 所述第一阻挡层包括: 第一密合膜,其位于所述第一防湿膜与所述第二基板之间,与所述第一防湿膜相比与所述第二基板的密合性高;和 第二密合膜,其位于所述第一防湿膜与所述有机层之间,与所述第一防湿膜相比与所述有机层的密合性高。5.如权利要求4所述的显示装置,其特征在于: 所述第一防湿膜的防湿性高于所述第一密合膜和所述第二密合膜的防湿性。6.如权利要求3所述的显示装置,其特征在于: 所述第二阻挡层包括第三密合膜,该第三密合膜位于所述第二防湿膜与所述有机层之间,与所述第二防湿膜相比与所述有机层的密合性高。7.如权利要求6所述的显示装置,其特征在于: 所述第二防湿膜的防湿性高于所述第三密合膜的防湿性。
【专利摘要】本发明提供一种能够抑制发光元件的劣化的显示装置。本发明一实施方式中的显示装置包括:第一基板;配置在第一基板上的发光元件;具有防湿性的与第一基板相对的第二基板;第一阻挡层,其配置在第二基板上,具有比第二基板的防湿性高的防湿性;有机层,其配置在第一阻挡层上的与发光元件相对的位置;和第二阻挡层,其配置在有机层上,具有比第二基板的防湿性高的防湿性。
【IPC分类】H01L27/32, H01L51/52
【公开号】CN105280674
【申请号】CN201510302995
【发明人】栗谷川武, 海东拓生
【申请人】株式会社日本显示器
【公开日】2016年1月27日
【申请日】2015年6月4日
【公告号】US20150364721
当前第3页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1