带电磁屏蔽膜的5G软硬结合板结构的制作方法

文档序号:24779977发布日期:2021-04-21 06:03阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种带电磁屏蔽膜的5g软硬结合板结构,其特征在于:包括有软板、第一硬板以及第二硬板;所述软板包括有pi基层、第一铜箔层和第二铜箔层;所述第一铜箔层和第二铜箔层分别覆盖在pi基层的上下表面;所述第一铜箔层的上表面局部覆盖有第一粘结层,所述第一粘结层的表面粘接覆盖有第一pi覆盖膜,所述第一pi覆盖膜的表面覆盖有第一电磁屏蔽膜,所述第二铜箔层的下表面局部覆盖有第二粘结层,所述第二粘结层的表面粘接覆盖有第二pi覆盖膜,所述第二pi覆盖膜的表面覆盖有第二电磁屏蔽膜;所述第一硬板叠合在第一铜箔层的上表面,所述第一粘结层、第一pi覆盖膜和第一电磁屏蔽膜均埋于第一硬板中,所述第一硬板上表面开设有第一窗口,第一窗口向下贯穿至第一电磁屏蔽膜的上表面;所述第二硬板叠合在第二铜箔层的下表面,所述第二粘结层、第二pi覆盖膜和第二电磁屏蔽膜均埋于第二硬板中,所述第二硬板上表面开设有第二窗口,第二窗口向下贯穿至第二电磁屏蔽膜的下表面。2.根据权利要求1所述的带电磁屏蔽膜的5g软硬结合板结构,其特征在于:所述第一粘结层、第一pi覆盖膜、第一电磁屏蔽膜、第二粘结层、第二pi覆盖膜和第二电磁屏蔽膜上下对应设置,并且第一窗口与第二窗口上下对应设置。3.根据权利要求1所述的带电磁屏蔽膜的5g软硬结合板结构,其特征在于:所述第一硬板包括有第一pp层、第一fr4层、第三铜箔层、第一镀铜层和第一阻焊层,所述第一pp层叠设于第一铜箔层的上表面,前述第一粘结层、第一pi覆盖膜和第一电磁屏蔽膜均埋于第一pp层内,所述第一fr4层叠设于第一pp层的上表面,所述第三铜箔层叠设于第一fr4层的上表面,所述第一镀铜层叠设于第三铜箔层的上表面,所述第一阻焊层叠设于第一镀铜层的上表面。4.根据权利要求1所述的带电磁屏蔽膜的5g软硬结合板结构,其特征在于:所述第二硬板包括有第二pp层、第二fr4层、第四铜箔层、第二镀铜层和第二阻焊层,所述第二pp层叠设于第二铜箔层的下表面,前述第二粘结层、第二pi覆盖膜和第二电磁屏蔽膜均埋于第二pp层内,所述第二fr4层叠设于第二pp层的下表面,所述第四铜箔层叠设于第二fr4层的下表面,所述第二镀铜层叠设于第四铜箔层的下表面,所述第二阻焊层叠设于第二镀铜层的下表面。5.根据权利要求1所述的带电磁屏蔽膜的5g软硬结合板结构,其特征在于:所述第一pi覆盖膜的上表面向下贯穿形成有凹槽,所述凹槽贯穿至第一铜箔层的上表面,所述第一电磁屏蔽膜向下填充至凹槽中并与第一铜箔层接触,且第一电磁屏蔽膜的上下表面凹设有凹位,所述凹位与凹槽上下对应。
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